[发明专利]用于在镀覆滚筒中从疏质子溶剂电沉积铝的电解质无效
申请号: | 200780049444.2 | 申请日: | 2007-10-16 |
公开(公告)号: | CN101573476A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | H·德弗里斯;M·黑特尔 | 申请(专利权)人: | 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司 |
主分类号: | C25D3/44 | 分类号: | C25D3/44;C07F5/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 德国蒙塔鲍尔*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 镀覆 滚筒 质子 溶剂 沉积 电解质 | ||
1.用于从疏质子溶剂电沉积铝的电解质,该电解质在有机溶剂中 含有具有下式的化合物:
N(R1)4X·[(m-n-o)Al(C2H5)3·nAlR23·oAlR33], (I)
其中
R1是C1至C4烷基,
X是F、Cl或Br,
m等于1至3,优选1.7至2.3,
n等于0.0至1.5,优选0.0至0.6,
o等于0.0至1.5,优选0.0至0.6,
R2、R3是C1或C3至C6烷基,其中R2不同于R3。
2.根据权利要求1的电解质,其特征在于该电解质在95℃下的 电导率大于25mS/cm。
3.根据权利要求1或2的电解质,其特征在于所述有机溶剂选自 甲苯、二甲苯或苯、或它们的混合物。
4.根据权利要求1至3中一项或多项的电解质,其特征在于相对 于所使用的四烷基铵化合物的量,所述溶剂的浓度为每摩尔所述化合 物1至4摩尔。
5.如权利要求1至4中一项或多项所述的电解质,其特征在于所 述化合物具有组成N(C2H5)4Cl·2Al(C2H5)3·2甲苯。
6.如权利要求1至4中一项或多项所述的电解质,其特征在于所 述化合物具有组成N(C2H5)4Cl·1.5Al(C2H5)3·0.5Al(CH3)3·2甲苯或 N(C2H5)4Cl·1.5Al(C2H5)3·0.5Al(C4H9)3·2甲苯或
N(C2H5)4Cl·1.5Al(C2H5)3·0.5Al(CH3)3·2甲苯。
7.制备如权利要求1至6中所述的电解质的方法,其特征在于下 面的处理步骤:
i)将化合物N(R1)4X干燥以除湿,
ii)在有机疏质子溶剂中由干燥的化合物N(R1)4X制备悬浮液,
iii)在冷却期间通过逐滴添加加入烷基铝化合物或烷基铝化合物 的混合物,直到获得澄清的溶液,
其中X、m、n、o、R1、R2、R3具有与权利要求1中相同的含义。
8.如权利要求1至6中所述的电解质的应用,其用于在材料部件 上电沉积铝。
9.如权利要求8中所述的应用,其特征在于所述材料部件选自金 属、合金、陶瓷、塑料或者由一种或多种所述材料制成的复合材料。
10.如权利要求8或9中所述的应用,其特征在于将待涂覆的所 述材料部件置于涂覆滚筒内并且在其中用铝进行涂覆。
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