[发明专利]浮区熔化装置有效
申请号: | 200780049466.9 | 申请日: | 2007-01-10 |
公开(公告)号: | CN101611177A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 进藤勇 | 申请(专利权)人: | 株式会社水晶系统 |
主分类号: | C30B13/00 | 分类号: | C30B13/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 马淑香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 熔化 装置 | ||
1.一种浮区熔化装置,在该浮区熔化装置中,四个旋转椭圆面反射镜 以包围样品棒的形态配置在正交轴上,这四个旋转椭圆面反射镜的焦点均 位于样品棒所在的中心位置,在各旋转椭圆面反射镜的与聚焦侧相反的一 侧的焦点位置上配置有红外灯的灯丝,从该灯丝发出的红外线在旋转椭圆 面反射镜上反射,并在另一个焦点上聚焦,对样品棒进行加热,其特征在 于,
所述旋转椭圆面反射镜的离心率是0.40~0.65,且反射镜的深度与开 口部直径之比是0.38~0.75,且所述旋转椭圆面反射镜以使从所述一个焦 点到另一个焦点的直线朝下方倾斜的形态配置,被反射面反射的红外线从 斜上方朝样品照射。
2.如权利要求1所述的浮区熔化装置,其特征在于,所述旋转椭圆面 反射镜是玻璃镜。
3.如权利要求1所述的浮区熔化装置,其特征在于,包括位置调节机 构,该位置调节机构使所述旋转椭圆面反射镜以所述样品的配置位置为中 心沿径向水平移动。
4.如权利要求1所述的浮区熔化装置,其特征在于,在结晶生长部下 侧设置有加热部。
5.如权利要求1所述的浮区熔化装置,其特征在于,在装置上侧另行 设置有原料熔化炉,并具有能使熔化后的原料适当滴落而提供给结晶生长 部的机构。
6.如权利要求5所述的浮区熔化装置,其特征在于,设置有原料导入 管或原料导入棒,该原料导入管或原料导入棒能将熔化后的原料从设置在 装置上侧的原料熔化炉提供给结晶生长部。
7.如权利要求1所述的浮区熔化装置,其特征在于,具有从真空到高 压能在任意压力下控制结晶生长部、原料熔化部、原料供给部全部的机构, 并具有从氧化性气体到还原性气体能任意控制气氛的机构。
8.一种浮区熔化装置,在该浮区熔化装置中,六个或八个旋转椭圆面 反射镜以包围样品棒的形态等间距配置,这六个或八个旋转椭圆面反射镜 的焦点均位于样品棒所在的中心位置,在各旋转椭圆面反射镜的与聚焦侧 相反的一侧的焦点位置上配置有红外灯的灯丝,从该灯丝发出的红外线在 旋转椭圆面反射镜上反射,并在另一个焦点上聚焦,对样品棒进行加热, 其特征在于,
所述旋转椭圆面反射镜的离心率是0.40~0.65,且反射镜的深度与开口 部直径之比是0.38~0.75,且所述旋转椭圆面反射镜以使从所述一个焦点到 另一个焦点的直线朝下方倾斜的形态配置,被所述反射面反射的红外线从 斜上方朝样品照射。
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