[发明专利]抗水解的有机改性硅烷化离子表面活性剂

权利要求书

1.一种组合物，其包含具有下式的硅烷： 

(R¹)(R²)(R³)Si-R⁴-Si(R⁵)(R⁶)(R⁷) 

式中 

R¹、R²、R³、R⁵和R⁶各自独立地选自：1～6个碳原子的一价烃基； 

R⁴为1～3个碳的烃基； 

R⁷为R⁸-R^A，R⁹-R^C，及R¹⁰-R^Z； 

R⁸选自： R¹¹(O)_t(R¹²)_u(O)_v-； 

这里R¹¹和R¹²各自独立地选自：1～4个碳原子的二价烃基；下标t、u和v为0或1； 

R^A为选自下列的一价基团：-SO₃M^K，-C(=O)CH₂CH(R¹⁵)COO^-M^K，-PO₃HM^K，-COOM^K，这里R¹⁵为H或者-SO₃M^K； 

M^K为选自下列的阳离子：Na⁺，K⁺，NH₄⁺，Li⁺，及一价铵离子，所述一价铵离子源自含有2～4个碳的烷基的一烷基胺、二烷基胺和三烷基胺，或者含有2～4个碳的烷基的一链烷醇胺、二链烷醇胺和三链烷醇胺； 

R⁹为选自下列的一价基团： 

R¹⁸O(C₂H₄O)_d(C₃H₆O)_e(C₄H₈O)_fCH₂CH(OH)CH₂-； 

这里R¹⁸为2～4个碳原子的二价烃基； 

下标d、e和f为0或正数并且满足下列关系： 

1≤d+e+f≤10且d≥1； 

R^C选自：N(R¹⁹)(R²⁰)， 

其中R¹⁹和R²⁰独立地选自：H，1～4个碳的一价支链或直链烃基，及-R²⁷O(C₂H₄O)_g(C₃H₆O)_h(C₄H₈O)_iR²⁸； 

下标g、h和i为0或正数并且满足下列关系： 

1≤g+h+i≤10且g≥1， 

R²¹、R²³、R²⁴、R²⁵各自独立地选自：H，及1～4个碳的一价支链或直链烃基； 

R²²为选自下列的一价基团：H，1～4个碳的一价支链或直链烃基，及-R³¹O(C₂H₄O)_j(C₃H₆O)_k(C₄H₈O)₁R³²； 

下标j、k和1为0或正数并且满足下列关系： 

1≤j+k+1≤10且j≥1； 

R²⁷、和R³¹独立地选自2～4个碳原子的二价烃基； 

R²⁸为选自下列的一价基团：H，1～6个碳的一价烃基； 

R³²选自：H，1～4个碳的一价支链或直链烃基； 

R¹⁰为选自下列的一价基团： 

R⁴⁰(O)_y(R⁴¹)_z-； 

这里R⁴⁰和R⁴¹各自独立地选自：1～4个碳原子的二价烃基； 

下标y和z为0或1； 

R^Z为 

-N-(R⁴³)(R⁴⁴)_αR⁴⁵SO₃(M^K)_β，-N-(R⁴⁶)(R⁴⁷)γR⁴⁸COO(M^K)_δ， 

-N⁺-(R⁴⁹)(R⁵⁰)R⁵¹OP(=O)(A)(B)，或者 

(-C(=O)N(R⁵²)R⁵³N-(R⁵⁴)(R⁵⁵))⁺-(R⁵⁶OP(=O)(A)(B))(X^-)_ε； 

这里R⁴³、R⁴⁴、R⁴⁶、R⁴⁷、R⁴⁹、R⁵⁰、R⁵²、R⁵⁴和R⁵⁵独立地选自：H，1～4个碳的一价支链或直链烃基，及含有2～4个碳的烷基的链烷醇胺基团；R⁴⁵为3～4个碳的二价基团； 

下标α、β、γ和δ为0或1并且满足下列关系： 

α+β=1且γ+δ=1； 

R⁴⁸和R⁵¹独立地为1～4个碳的二价基团； 

R⁵³和R⁵⁶各自独立地为2～4个碳的二价基团； 

A和B选自：O^-和OM^K；X为选自Cl、Br和I的阴离子；及下标ε为0、1或2。