[发明专利]固体摄像元件、固体摄像装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200780052071.4 申请日: 2007-12-26
公开(公告)号: CN101627475A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 舛冈富士雄;中村广记 申请(专利权)人: 日本优尼山帝斯电子股份有限公司
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148;H01L31/10;H04N5/335
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 固体 摄像 元件 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种固体摄像元件,其特征在于,包括:

第1导电型半导体层;

形成在上述第1导电型半导体层上的第1导电型柱状半导体层;

形成在上述第1导电型柱状半导体层的上部,且电荷量根据受光的不同而变化的第2导电型光电转换区域;

与上述第1导电型柱状半导体层的上端隔着规定间隔而形成在上述第2导电型光电转换区域的表面的第1导电型高浓度杂质区域,

在上述第1导电型柱状半导体层的侧面隔着栅极绝缘膜而形成有传送电极,

在上述传送电极的下方形成有第2导电型CCD沟道区域,

在上述第2导电型光电转换区域与上述第2导电型CCD沟道区域所夹着的区域形成有读出沟道。

2.一种固体摄像装置,以行列状排列有多个权利要求1中所记载的固体摄像元件。

3.根据权利要求2所记载的固体摄像装置,其特征在于,上述第2导电型CCD沟道区域由至少在相邻的上述第1导电型柱状半导体层列之间的各列之间沿列方向延伸的第2导电型杂质区域所构成,

且以使上述第2导电型CCD沟道区域不会相互接触的方式设置由第1导电型高浓度杂质构成的元件分离区域。

4.根据权利要求3所记载的固体摄像装置,其特征在于,包括在上述第1导电型柱状半导体层的侧面隔着栅极绝缘膜所形成的传送电极在内的多个传送电极,在相邻的上述第1导电型柱状半导体层行之间的各行之间沿行方向延伸,且以沿着上述第2导电型CCD沟道区域传送在上述固体摄像元件所产生的 信号电荷的方式分开规定间隔而排列。

5.一种固体摄像装置,第1固体摄像元件列和第2固体摄像元件列在水平像素方向上隔有间隔排列而成的元件列的组朝下述列方向偏移规定量且在水平像素方向上隔有上述间隔排列多组,上述第1固体摄像元件列中以规定间隔沿列方向排列有多个权利要求1所述的固体摄像元件,上述第2固体摄像元件列中以上述规定间隔沿上述列方向排列有多个权利要求1所述的固体摄像元件、且相对于上述第1固体摄像元件列朝上述列方向偏移规定量配置。

6.根据权利要求5所述的固体摄像装置,其特征在于,上述第2导电型CCD沟道区域由至少在相邻的上述柱状半导体层列之间的各列之间通过该相邻第1导电型柱状半导体层列的各柱状半导体层之间而沿列方向延伸的第2导电型杂质区域所构成,

且以使上述第2导电型CCD沟道区域不会相互接触的方式设置由第1导电型高浓度杂质所构成的元件分离区域。

7.根据权利要求6所述的固体摄像装置,其特征在于,上述传送电极在相邻柱状半导体层行之间的各行之间,以通过该相邻柱状半导体层行的各柱状半导体层之间而沿行方向延伸、且沿着上述第2导电型CCD沟道区域传送在上述固体摄像元件所产生的信号电荷的方式分开规定间隔而排列。

8.一种固体摄像元件的制造方法,其特征在于,包括:

形成第1导电型半导体层、该第1导电型半导体层上的第1导电型柱状半导体层、该第1导电型柱状半导体层上部的第2导电型光电转换区域及与该第1导电型柱状半导体层的上端隔着规定间隔的该第2导电型光电转换区域表面的第1导电型高浓度杂质区域的工序;

在上述第1导电型半导体层表面形成第2导电型CCD沟道 区域的工序;

在上述第1导电型柱状半导体层的侧面形成栅极绝缘膜的工序;

在上述第2导电型CCD沟道区域的上方,在上述第1导电型柱状半导体层的侧面隔着上述栅极绝缘膜而形成传送电极的工序。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本优尼山帝斯电子股份有限公司,未经日本优尼山帝斯电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780052071.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top