[发明专利]FIC设备以及在过压范围内运行FIC设备的方法

权利要求书

1.用于对构件(4、120、130、155)进行氟离子清洗的方法，

其中，将氟离子清洗设备(1)的反应室(10)中的反应气体或 者反应气体混合物的压力(p)至少暂时地调节得大于大气压(p_at)，

其中，周期性地降低以及再提高所述反应室(10)中的压力(p)， 并且

其中，通过反应气体或者反应气体混合物的存在来确定裂缝清洗 阶段(S4)，

其中，通过反应气体或者反应气体混合物的缺少和比在反应室吹 洗阶段(S3)中低的压力(P_N)(P_N＜P_H)来确定反应室吹洗阶段(S3)， 并且其中，多次使用反应气体或者反应气体混合物，

阶段(S4、S5)被反应室吹洗阶段(S3)中断，

其中，在裂缝吹洗阶段(S5)中向裂缝加载非反应气体。

2.按权利要求1所述的方法，

其中，所述反应室(10)中的压力(p)至少暂时处于大于大气 压(p_at)的压力与1.4bar(＝140kPa)之间。

3.按权利要求1或2所述的方法，

其中，所述反应室(10)中的压力(p)至少暂时是恒定的。

4.按权利要求1、2或3所述的方法，

其中，所述反应室(10)中的压力(p)至少暂时地低于大气压 (p_at)。

5.按权利要求1、2或3所述的方法，

其中，所述反应室(10)中的压力(p)至少暂时地相当于大气 压(p_at)。

6.按前述权利要求1到5中一项或多项所述的方法，

其中，高压阶段(P_H)在持续时间(t_h)里具有比在低压阶段(P_N) 中高的压力(P_H＞P_N)，并且

其中，在高压阶段(P_H)中最多暂时地(t_s，t_s＜t_h)用反应气体或 者用反应气体混合物来吹洗反应室(10)，这是裂缝清洗阶段(S4)。

7.按前述权利要求1到5中一项或多项所述的方法，

其中，高压阶段(P_H)在持续时间(t_h)里具有比在低压阶段(P_N) 中高的压力(P_H＞P_N)，并且

其中，在高压阶段(P_H)中在持续时间(t_h)中用反应气体或者 用反应气体混合物来吹洗反应室(10)，这是裂缝清洗阶段(S4)。

8.按权利要求1、2、3、4、5或6所述的方法，

其中，在高压阶段(P_H)中在持续时间(t_h-t_s＞0)里仅仅用非反 应气体来吹洗，这是裂缝吹洗阶段(S5)。

9.按权利要求1、6或8所述的方法，

其中，如果反应气体混合物或者反应气体的流动率大于0，那么 改变非反应气体的流动率。

10.按权利要求1、3、4或9所述的方法，

其中，将压力在大气压(p_at)以下降低到(P_N)，并且

其中，仅仅用非反应气体来吹洗，这是反应室吹洗阶段(S3)。

11.按权利要求10所述的方法，

其中，所述阶段(S4、S5、S3)作为一个周期直接先后相随。

12.按权利要求1、10或11所述的方法，

其中，实施三到十个周期。

13.按权利要求1、10到12中任一项所述的方法，

其中，裂缝清洗阶段(S4)持续10分钟到60分钟。