[发明专利]激光可调节深度标记系统和方法

权利要求书

1.一种激光标记设备，包括：

用于产生激光的激光发生单元；

用于为所述激光发生单元供电的激光电源；

用于产生扩展的激光的扩束器；

可调节的偏振设备，包括角度可变的偏振镜角设备，用于改变从其中 穿过的激光的偏振，其中该可调节的偏振设备根据该角度的变化调整 扩展的激光的能量密度；以及

用于接收调整了能量密度的扩展的激光并将其指向一片材料表面的 振镜扫描元件，

其中，通过该偏振镜角设备的角度变化而实现的对调整了能量密度的 扩展的激光的控制使得所述激光标记设备能够在所述该片材料表面 上产生具有低飞溅的标记。

2.如权利要求1所述的设备，其中可调节的偏振设备进一步包括用于通 过齿轮机构调整所述偏振镜角设备的偏振角的转换齿轮设备。

3.如权利要求1所述的设备，其中可调节的偏振设备进一步包括光阑设 备，通过调整光阑和孔径来调整扩展的激光的能量密度。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述该片材料是半导体晶片并且其中 标记的深度小于1微米且具有低飞溅。

5.如权利要求1所述的设备，其中该片材料是半导体晶片并且其中标记 的深度在1微米和100微米之间并且能够设置成软标记或硬标记。

6.如权利要求1所述的设备，其中激光发生单元进一步包括掺钕钇铝石 榴石激光器。

7.如权利要求1所述的设备，其中可调节的偏振设备在0度和90度之 间调整扩展的激光的偏振角。

8.如权利要求7所述的设备，其中可调节的偏振设备在60度和70度之 间调整扩展的激光的偏振角。

9.一种采用激光标记设备在一片材料上进行激光标记的方法，其中激光 标记设备包括激光电源，激光传输系统，振镜扫描系统和电脑控制系 统，所述方法包括：

采用可调节的偏振设备调节激光能量密度，其中所述偏振设备包括角 度可变的偏振镜角设备，用于改变从中穿过的激光的偏振，其中可调 节的偏振设备根据该角度的变化调整扩展的激光的能量密度；

将调整了能量密度的激光指向一片材料；以及

利用通过该偏振镜角设备的角度变化而调整了能量密度的激光在所 述该片材料的表面上产生标记，其中标记的深度可调节并且具有低飞 溅。

10.如权利要求9所述的方法，其中在所述该片材料上产生标记进一步包 括在半导体基片表面上产生标记。

11.如权利要求9所述的方法，其中，调整激光的能量密度进一步包括在 0度到90度之间调整可调节的偏振设备的偏振角。

12.如权利要求11所述的方法，其中，调整偏振角进一步包括在60度到 70度之间调整激光的偏振角。