[发明专利]气液接触系统无效
申请号: | 200810001052.5 | 申请日: | 2008-01-15 |
公开(公告)号: | CN101279176A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 小岛久夫 | 申请(专利权)人: | 风神有限公司 |
主分类号: | B01D47/06 | 分类号: | B01D47/06 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接触 系统 | ||
1.一种气液接触系统,其包括:
容器,沿纵向与地面接近垂直地布置所述容器;
静止型流体混合器,其位于所述容器中,具有通路管和设置在所述通路管中的螺旋状叶片;
气体供给器,其将具有异物的气体从所述容器的下端供给到所述静止型流体混合器;
气体排出器,其从所述容器的上端排出通过了所述静止型流体混合器的气体;
第一液体供给器,其向所述静止型流体混合器供给液体;以及
液体排出器,其将从所述第一液体供给器供给的所述液体排出到所述容器的外部,
所述气体供给器包括产生气体的气体产生器、使所述气体产生器与所述容器连接的管、设置在所述管中的送风装置、以及向所述气体产生器和所述送风装置之间的所述管供给液体的第二液体供给器。
2.根据权利要求1所述的气液接触系统,其特征在于,
所述第二液体供给器包括喷嘴构件,所述喷嘴构件在所述管中供给喷雾状或蒸气状的液体。
3.一种气液接触系统,其包括:
容器,沿纵向与地面接近垂直地布置所述容器;
第一静止型流体混合器,其位于所述容器中,具有通路管和设置在所述通路管中的螺旋状叶片;
气体供给器,其将具有异物的气体从所述容器的下端供给到所述第一静止型流体混合器;
第一液体供给器,其向所述第一静止型流体混合器供给液体;以及
液体排出器,其将从所述第一液体供给器供给的所述液体排出到所述容器的外部,
所述气体供给器包括产生气体的气体产生器、使所述气体产生器与所述容器连接的管、设置在所述管中的送风装置、以及向所述气体产生器和所述送风装置之间的所述管供给液体的第二液体供给器。
4.根据权利要求3所述的气液接触系统,其特征在于,还包括:
第二液体供给器,其向所述气体产生器和所述第二静止型流体混合器之间的所述管供给液体。
5.根据权利要求1或2所述的气液接触系统,其特征在于,
所述第一液体供给器还包括上喷嘴构件和下喷嘴构件,所述上喷嘴构件将所述液体从所述容器的上部供给到所述静止型流体混合器,所述下喷嘴构件将所述液体从所述容器的下部供给到所述静止型流体混合器。
6.根据权利要求5所述的气液接触系统,其特征在于,
将所述下喷嘴构件的喷嘴布置成面对所述静止型流体混合器。
7.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
所述液体排出器包括设置在所述容器的内壁的管。
8.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
从所述第一液体供给器供给到所述容器的所述液体的量基于从所述气体供给器供给到所述容器的所述气体的量的液气比在大约0.1~20L/m3的范围内。
9.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
从所述第二液体供给器供给到所述送风装置的所述液体的量基于从所述气体供给器供给到所述送风装置的所述气体的量在大约0.01~0.5vol%的范围内。
10.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
从所述第二液体供给器供给到所述送风装置的蒸气状液体的量基于从所述气体供给器供给到所述送风装置的所述气体的量在大约0.01~0.5vol%的范围内。
11.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
从所述第一液体供给器和所述第二液体供给器供给的所述液体的表面张力是大约73×10-3N/m或更小。
12.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
从所述第一液体供给器和所述第二液体供给器供给的所述液体含有表面活性剂。
13.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
从所述第一液体供给器和所述第二液体供给器供给的所述液体中的表面活性剂的含量在大约0.001~5.0wt%的范围内。
14.根据权利要求1或4所述的气液接触系统,其特征在于,
所述容器具有倒锥形状,其中,所述容器的上部沿向上的方向径向截面积逐渐增大。
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