[发明专利]对于离子注入器的改进

权利要求书

1.一种离子注入器部件，其具有至少部分地限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，其中，所述表面的至少一部分被粗糙化。

2.如权利要求1所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化，以提供表面特征图案。

3.如权利要求2所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化，以提供规则的表面特征图案。

4.如权利要求2或3所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化以提供表面特征，所述表面特征至少部分由所述表面的相邻部分的取向的急剧变化而限定。

5.如权利要求4所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化以提供表面特征，所述表面特征至少部分由在尖锐边棱处相交的相邻面限定。

6.如权利要求1-5中任一项所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化以提供一系列槽。

7.如权利要求6所述的部件，其中，所述槽的深度范围为0.1mm到10mm，或0.25mm到7.5mm，或0.5mm到5mm。

8.如权利要求6或7所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化以提供一系列并排的槽。

9.如权利要求8所述的部件，其中，所述一系列槽包括具有规则间距的槽，所述间距范围为0.1mm到10mm，或0.25mm到7.5mm，或0.5mm到5mm。

10.如权利要求6-9中任一项所述的部件，其中，所述槽具有任何一种如下的横截面形状：v形、u形、锯齿形或者箱形沟槽。

11.如权利要求6-10中任一项所述的部件，其中，所述表面的所述部分被粗糙化以提供至少两组交错系列的槽。

12.如权利要求11所述的部件，其中，第一系列槽和第二系列槽垂直布置。

13.如权利要求12所述的部件，其中，所述第一系列槽和所述第二系列槽包括v形槽，所述v形槽交错形成四面体阵列。

14.一种离子注入器部件，其具有至少部分地限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，其中，所述表面经过琢面，以提供多个由边棱分隔开的面。

15.一种离子注入器部件，其具有至少部分地限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，其中，所述表面的至少一部分用图案纹理化，所述图案包括深度范围为0.5mm到5mm、间距范围为0.5mm到5mm的表面特征。

16.一种离子注入器，其包括根据权利要求1-15中任一项所述的部件。

17.一种制造离子注入器部件的方法，所述离子注入器部件具有用于至少部分限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，所述方法包括粗糙化所述表面的至少一部分。

18.一种防止累积在限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面上的沉积物剥离的方法，所述方法包括向所述离子注入器提供如权利要求1-15中任一项所述的部件。