[发明专利]包括具有凸凹表面的反射膜的LCD设备有效

专利信息
申请号: 200810003469.5 申请日: 2008-01-17
公开(公告)号: CN101261410A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 中谦一郎;坂本道昭;永井博;森健一 申请(专利权)人: NEC液晶技术株式会社
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/133;G03F1/00;G03F7/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙志湧;陆锦华
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 包括 具有 凸凹 表面 反射 lcd 设备
【权利要求书】:

1.一种液晶显示设备,包括:

反射区,用于反射入射光并提供在像素的至少一部分中;

反射膜,提供在所述反射区中并具有凸凹表面;以及

多个电极,用于在横向上驱动其间的液晶分子,其中:

所述凸凹表面的倾角在覆盖所述电极的第一区域和覆盖所述电极的相邻两个间的间隙的第二区域间具有不同的分量。

2.根据权利要求1所述的液晶显示设备,其中,所述第一区域中的所述倾角的分量具有比所述第二区域中的所述倾角的分量较低的角度分布。

3.根据权利要求1所述的液晶显示设备,其中,所述反射膜的所述倾角使得由所述第二区域反射的光朝观察者出射,以及由所述第一区域反射的光朝镜面反射方向出射。

4.根据权利要求1所述的液晶显示设备,其中,所述第二区域中的所述倾角的分量使得属于4.7至9.1度的范围中的分量在数量上大于属于0至2.9度范围中的分量,以及其中,在所述第一区域中的所述倾角的分量使得属于0至2.9度的范围中的分量在数量上大于属于4.7至9.1度的范围中的分量。

5.一种用在形成液晶显示设备中的光掩模,所述液晶显示设备包括用于在像素的至少一部分中反射入射光的反射区;在所述反射区中提供并具有凸凹表面的反射膜;以及用于在横向上驱动液晶分子的多个电极,其中,所述光掩模用于在所述反射膜上形成所述凸凹表面,并且在覆盖所述电极的区域中不具有凸凹图案。

6.一种用在形成液晶显示设备中的光掩模,所述液晶显示设备包括用于在像素的至少一部分中反射入射光的反射区;在所述反射区中提供并具有凸凹表面的反射膜;以及用于在横向上驱动液晶分子的多个电极,其中,所述光掩模用于在所述反射膜上形成所述凸凹表面,并且包括在覆盖所述电极的区域中增加的光屏蔽图案。

7.一种用在形成液晶显示设备中的光掩模,所述液晶显示设备包括用于在像素的至少一部分中反射入射光的反射区;在所述反射区中提供并具有凸凹表面的反射膜;以及用于在横向上驱动液晶分子的多个电极,其中,所述光掩模用于在所述反射膜上形成所述凸凹表面,并且包括在覆盖所述电极的区域中的灰色调图案或半色调图案。

8.一种在横向电场驱动模式中操作的液晶显示设备的制造方法,所述方法包括:

在衬底上涂敷光敏树脂;

通过使用根据权利要求5至7中任一项所述的光掩模,使所述光敏树脂曝光;

对所述曝光的光敏树脂进行显影;

对所述显影的光敏树脂进行烧制,以便形成凸凹保护层膜;以及

在所述凸凹保护层膜上形成反射膜。

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