[发明专利]光致酸生成剂、含它的光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法

权利要求书

1.一种光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有选自由下列化学式1、2、3和4表示的化合物中的锍盐阳离子基团和由下列化学式5表示且含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团，其中R₁、R₂、R₃和R₄独立地表示氢原子或含1至5个碳原子的烷基，n表示1至3的自然数，并且X表示选自含4至10个碳原子的环状基团、金刚烷基和含有氧原子的环庚基中的一个，

<化学式1>

<化学式2>

<化学式3>

<化学式4>

<化学式5>

2.权利要求1所述的光致酸生成剂，其中所述光致酸生成剂能够与光反应以形成由下列化学式6-1或化学式6-2表示的磺酸，其中n表示1至3的自然数，

<化学式6-1>

<化学式6-2>

3.权利要求1所述的光致酸生成剂，其中所述光致酸生成剂由下列化学式1-1或化学式1-2表示，其中n表示1至3的自然数，

<化学式1-1>

<化学式1-2>

4.权利要求1所述的光致酸生成剂，其中所述光致酸生成剂由下列化学式2-1或化学式2-2表示，其中n表示1至3的自然数，

<化学式2-1>

<化学式2-2>

5.权利要求1所述的光致酸生成剂，其中所述光致酸生成剂由下列化学式3-1或化学式3-2表示，其中n表示1至3的自然数，并且R₁表示氢原子或含1至3个碳原子的烷基，

<化学式3-1>

<化学式3-2>

6.权利要求1所述的光致酸生成剂，其中所述光致酸生成剂由下列化学式4-1或化学式4-2表示，其中n表示1至3的自然数，并且R₂、R₃和R₄独立地表示氢原子或含1至5个碳原子的烷基，

<化学式4-1>

<化学式4-2>

7.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：

约4％至约10重量％的光致抗蚀剂树脂；

约0.1％至约0.5重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有选自由下列化学式1、2、3和4表示的化合物中的锍盐阳离子基团和由下列化学式5表示且含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团，其中R₁、R₂、R₃和R₄独立地表示氢原子或含1至5个碳原子的烷基，n表示1至3的自然数，并且X表示选自含4至10个碳原子的环状基团、金刚烷基和含有氧原子的环庚基中的一个；和

余量的溶剂

<化学式1>

<化学式2>

<化学式3>

<化学式4>

<化学式5>

8.权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致酸生成剂能够与光反应以形成由下列化学式6表示的磺酸，其中n表示1至3的自然数，并且X表示选自含4至10个碳原子的环状基团、金刚烷基和含有氧原子的环庚基中的一个，

<化学式6>

9.权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致酸生成剂由下列化学式1-1或化学式1-2表示，其中n表示1至3的自然数，

<化学式1-1>

<化学式1-2>