[发明专利]反射率测量装置无效

专利信息
申请号: 200810004212.1 申请日: 2008-01-21
公开(公告)号: CN101493408A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 林昆蔚;江易轩;郑龙宇;张裕修 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G01N21/55 分类号: G01N21/55
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁 挥;祁建国
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 反射率 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种反射率测量装置,其特征在于,包括:

一光源体,其可提供一检测光;

一第一光检测部,其可感测光的强度;

一光源调制部,其可将该检测光调制至一待测物上并将由该待测物反射的一反射光调制至该第一光检测部上;

一第二光检测部,其可感测光的强度;以及

一反射罩,其设置于该待测物与该光源调制部之间,该反射罩可将由该待测物散射的一发散反射光导引至该第二光检测部上。

2.根据权利要求1所述的反射率测量装置,其特征在于,该反射罩上更具有一通孔,其可提供该检测光以及该反射光通过。

3.根据权利要求2所述的反射率测量装置,其特征在于,该通孔具有一锥度。

4.根据权利要求1所述的反射率测量装置,其特征在于,该反射罩具有一抛物曲面,其焦点位于该待测物上,该抛物曲面可将该发散反射光调制成一平行光至该第二光检测部。

5.根据权利要4所述的反射率测量装置,其特征在于,该抛物曲面上更镀有一反射膜。

6.根据权利要求4所述的反射率测量装置,其特征在于,该第一光检测部与该光源调制部间更设置有一透镜单元。

7.根据权利要求1所述的反射率测量装置,其特征在于,该反射罩具有一椭圆曲面,该椭圆曲面的第一焦点在该待测物上,该椭圆曲面可调制该发散反射光聚焦于该椭圆曲面的第二焦点上。

8.根据权利要求7所述的反射率测量装置,其特征在于,该第二光检测部设置于该第二焦点上。

9.根据权利要求7所述的反射率测量装置,其特征在于,该抛物曲面上更镀有一反射膜。

10.根据权利要求1所述的反射率测量装置,其特征在于,该光源调制部更具有:

一分光镜,其可将该检测光分光以形成一第一检测光以及一第二检测光:以及

一透镜,其可将该第一检测光聚焦至该待测物上。

11.根据权利要求10所述的反射率测量装置,其特征在于,更具有一光监控部以接收该第二检测光,进而监控该检测光的功率强度。

12.根据权利要求11所述的反射率测量装置,其特征在于,该光监控部更具有:

一光检测器;以及

一透镜,其设置于该分光镜与该检测器之间,该透镜可将该第二检测光聚焦至该光检测器上。

13.根据权利要求1所述的反射率测量装置,其特征在于,该第一光检测部与该光源调制部间更设置有一透镜单元。

14.根据权利要求1所述的反射率测量装置,其特征在于,该光源体可提供一准直光源。

15.根据权利要求14所述的反射率测量装置,其特征在于,该准直光源为一镭射。

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