[发明专利]用于衬底处理腔室的工艺配件

权利要求书

1、一种护板，其在衬底处理腔室中用于围绕面对衬底的溅射靶，所述护板包含：

(a)圆柱带，其具有围绕溅射靶的顶壁和围绕衬底支架的底壁；

(b)支撑壁架，其从圆柱带的顶壁径向向外延伸；

(c)倾斜阶梯，其从圆柱带的底壁径向向内延伸；以及

(d)U型沟道，其接合到倾斜阶梯，并且该沟道围绕衬底支架，该U型沟道包含第一和第二腿部件；第一腿部件具有多个气孔以允许工艺气体经过，从而该气孔提供上升的气体热导。

2、根据权利要求1所述的护板，其特征在于，在所述第一腿部件中的所述气孔基本呈椭圆形。

3、根据权利要求2所述的护板，其特征在于，所述气孔具有从大约2.54到大约5.08cm的宽度，以及从大约0.51到大约2.03cm的高度。

4、根据权利要求1所述的护板，其特征在于，所述倾斜的阶梯包含弧形接合点。

5、根据权利要求1所述的护板，其特征在于，所述U型沟道的所述第一腿部件的高度大于所述第二腿部件。

6、根据权利要求1所述的护板，其特征在于，包含由铝组成的整体结构。

7、根据权利要求6所述的护板，其特征在于，包含在所述护板表面上的双线铝电弧喷涂涂层。

8、根据权利要求7所述的护板，其特征在于，所述双线铝电弧喷涂涂层包含从大约600到大约2300微英寸的表面粗糙度。

9、根据权利要求1所述的护板，其特征在于，所述支撑壁架包含支持表面和在该表面中的多个槽。

10、一种组件，其包含根据权利要求9所述的适配器和护板，其特征在于，所述适配器包含与所述护板的支撑壁架的支持表面接触的接触表面，以支撑所述护板并提供之间的良好热传导。

11、根据权利要求10所述的组件，其特征在于，进一步包含用于将所述护板与所述适配器对齐的排列销系统，该排列销系统包含在所述适配器上的圆形排列中隔开的多个销，每个销包含刚性构件，该刚性构件具有压配入所述适配器中的压配连接器和啮合到所述护板的支撑壁架上的多个槽的其中之一中的头。

12、根据权利要求10所述的适配器，其特征在于，所述护板的支持表面和所述适配器的接触表面每个都具有从大约600到大约2300微英寸的表面粗糙度。

13、根据权利要求10所述的组件，其特征在于，包含用于流动热传送流体的导管。

14、一种在衬底处理腔室中的沉积环周围放置的盖环，所述沉积环位于腔室中的衬底支架和圆柱护板之间，并且所述盖环包含：

(a)环形楔，其包含围绕所述衬底支架的倾斜顶表面，所述倾斜顶表面具有内部和外部外围、所述倾斜顶表面的外部外围周围的球形隆凸、从所述倾斜顶表面向下延伸以放置在所述沉积环上的基脚，以及在所述倾斜顶表面的内部外围周围的凸起边；以及

(b)从所述环形楔向下延伸的内部和外部圆柱带，所述内部带的高度小于所述外部带。

15、根据权利要求14所述的盖环，其特征在于，所述环形楔的所述倾斜顶表面径向向内倾斜。

16、根据权利要求15所述的盖环，其特征在于，所述倾斜顶表面以至少大约15度的角度倾斜。

17、根据权利要求14所述的盖环，其特征在于，所述球形隆凸包含利用所述圆柱护板形成间隙的椭圆圆周表面。

18、根据权利要求14所述的盖环，其特征在于，所述盖环能被提升和降低，以关于所述衬底处理腔室中的衬底支架而调整所述盖环的高度。

19、根据权利要求14所述的盖环，其特征在于，所述盖环包含钛。

20、根据权利要求19所述的盖环，其特征在于，所述钛包含至少大约99.9％的纯度。

21、根据权利要求14所述的盖环，其特征在于，所述内部和外部圆柱带基本垂直。

22、根据权利要求14所述的盖环，其特征在于，包含具有双线铝电弧喷涂涂层的暴露表面。