[发明专利]半导体封装结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810004615.6 申请日: 2008-01-21
公开(公告)号: CN101335224A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 陈承先;张国钦;卢思维;曹佩华;王忠裕;曾汉良;李明机 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/488;H01L23/498
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装结构的制造方法,包括下列步骤:

提供半导体芯片,其上露出多个导电层;

提供第一基板,其具有第一表面与第二表面,所述第一表面露出多个介层插塞;

将所述半导体芯片与所述第一基板接合,其中所述多个导电层对准并接触所述多个介层插塞;

从所述第二表面去除部分所述第一基板,以露出所述多个介层插塞的另一端;

于所述多个介层插塞露出的另一端形成多个凸块底层金属;

于所述多个凸块底层金属上形成多个焊料凸块;以及

提供第二基板,其具有第一表面与第二表面,并将所述多个焊料凸块设置在所述第二基板的第一表面。

2.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,其中所述多个导电层包括接合垫或金属层。

3.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,其中所述第一基板包括硅、二氧化硅、玻璃、或前述的组合,且所述第一基板的厚度约200-775μm。

4.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,其中所述半导体芯片与所述第一基板的接合是以下列方式之一进行:直接接合、阳极接合、共晶接合、粘着接合、或玻璃介质接合。

5.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,其中去除部分的所述第一基板是以下列方式之一进行:抛光研磨、化学机械研磨、电化学机械研磨、湿蚀刻、或干蚀刻。

6.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,其中去除部分的所述第一基板后,所述第一基板剩余的厚度约50-300μm。

7.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,还包括在第一基板与所述第二基板之间填入底部填充胶。

8.如权利要求1所述的半导体封装结构的制造方法,还包括于所述第二基板的第二表面形成多个焊球。

9.如权利要求8所述的半导体封装结构的制造方法,还包括将所述多个焊球设置在第三基板上。

10.一种半导体封装结构,包括:

半导体芯片,其上露出多个导电层;

第一基板,其具有多个介层孔洞,所述多个介层孔洞中具有多个介层插塞,所述第一基板的第一侧露出所述多个介层插塞的一端,所述第一基板的第二侧露出所述多个介层插塞的另一端,其中所述半导体芯片与所述第一基板接合,且所述多个导电层对准并接触第一侧的所述多个介层插塞;

多个凸块底层金属,设置在所述多个介层插塞的另一端;

多个焊料凸块,设置在所述多个凸块底层金属上;以及

第二基板,其具有第一表面与第二表面,其中所述多个焊料凸块设置在所述第二基板的第一表面。

11.如权利要求10所述的半导体封装结构,还包括多个焊球设置于所述第二基板的第二表面。

12.如权利要求11所述的半导体封装结构,还包括第三基板,其上设置所述多个焊球。

13.如权利要求10所述的半导体封装结构,其中所述导电层包括接合垫或金属层。

14.如权利要求10所述的半导体封装结构,其中所述第一基板包括硅、二氧化硅、玻璃、或前述的组合,且所述第一基板的厚度约50-300μm。

15.如权利要求10所述的半导体封装结构,其中在第一基板与所述第二基板之间还包括底部填充胶。

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