[发明专利]基底位置检测方法、基底处理方法和基底处理装置

权利要求书

1.一种对放置在支撑板上的基底的位置进行检测的方法，包括：

测量所述支撑板的温度；并且

将所述测量温度与预定参考温度进行比较，从而检测基底的位置。

2.如权利要求1所述的检测方法，其中所述测量温度是所述支撑板的最低温度。

3.如权利要求1所述的检测方法，其中所述测量温度是在将基底放置在所述支撑板上并经过预定时间之后测量出来的温度。

4.一种基底处理方法，包括：

将基底放置在支撑板上；

测量所述支撑板的温度；并且

将所述测量温度与参考温度进行比较，从而检测基底是否放置在所述支撑板上的预定位置处。

5.如权利要求4所述的处理方法，其中所述测量温度是所述支撑板的最低温度。

6.如权利要求4所述的处理方法，其中所述测量温度是在将基底放置在所述支撑板上并经过预定时间之后测量出来的温度。

7.如权利要求4所述的处理方法，其中如果所述测量温度处于所述参考温度范围之外，则判定基底是偏置于所述支撑板上的预定位置之外；并且

如果所述测量温度处于所述参考温度范围之内，则判定基底是放置在所述支撑板上的预定位置处。

8.如权利要求7所述的处理方法，其中当基底偏置于所述支撑板上的预定位置之外时，中止对基底的处理；并且

当基底放置在所述支撑板上的预定位置处时，进行对基底的处理。

9.如权利要求7所述的处理方法，其中当基底偏置于所述支撑板上的预定位置之外时，产生警告。

10.一种基底处理装置，包括：

处理室，在所述处理室中对基底进行处理；

安装在所述处理室内的支撑板，在所述支撑板上放置基底；

加热器，用于加热所述支撑板；

安装在所述支撑板上的温度检测部件，用于检测所述支撑板的温度；

温度控制器，用于根据从所述温度检测部件发出的信号来控制所述加热器；以及

主控制器，用于控制对基底的处理，

其中所述主控制器根据由所述温度检测部件检测出来的温度，来检测基底是否放置在所述支撑板上的预定位置处。

11.如权利要求10所述的处理装置，其中所述主控制器包括：

数据库单元，所述支撑板的预定参考温度存储在所述数据库单元中；以及

检测单元，用于将存储在所述数据库单元中的参考温度与由所述温度检测部件检测出来的温度进行比较，从而检测基底是否放置在所述支撑板上的预定位置处。

12.如权利要求11所述的处理装置，其中所述主控制器还包括：

警告单元，用于在基底偏置于所述支撑板上的预定位置之外时产生警告。