[发明专利]具有用来将浆料保留在抛光垫构造上的凹槽的抛光垫

权利要求书

1.一种用来与抛光介质结合使用的抛光垫，其具有在使用过程中旋转抛光垫而得到的理想流径，所述抛光垫包括：

(a)设计用来在抛光介质的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层，所述抛光层包括圆形抛光面，该抛光面在抛光过程中具有环形抛光轨迹；

(b)形成于所述抛光层内的至少一个凹槽，其具有位于所述抛光轨迹内的正交部分，所述正交部分具有一定长度，沿整个长度成形，其沿正交部分与理想流体流径正交。

2.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光轨迹具有一定宽度，所述正交部分横跨该宽度的至少50％。

3.如权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，所述正交部分横跨所述抛光轨迹宽度的至少75％。

4.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，其包括多个凹槽，这些凹槽部分地通过使所述正交部分重复环绕所述抛光面而确定。

5.如权利要求4所述的抛光垫，其特征在于，所述多个凹槽部分地通过使所述正交部分以固定的角节距重复环绕所述抛光面而确定。

6.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述正交部分的形状通过以下公式确定：

r*=roe12(3θ)2/3]]>

式中r_o是距离抛光垫圆心的初始径向位置，θ是流径角。

7.一种抛光垫，其包括：

(a)设计用来在抛光介质的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层；

(b)形成于所述抛光层中的至少一个凹槽，其具有位于抛光轨迹内的正交部分，所述正交部分具有一定长度，依照以下公式成形

r*=roe12(3θ)2/3]]>

式中r_o是与抛光垫的圆心相距的初始轴向位置，θ是流径角度。

8.如权利要求7所述的抛光垫，其特征在于，在抛光过程中，所述抛光面包括具有一定宽度的抛光轨迹，所述正交部分横跨所述宽度的至少50％。

9.如权利要求7所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光垫包括多个凹槽，这些凹槽部分地通过使所述正交部分以固定的角节距重复环绕所述抛光面而确定。

10.一种用来与抛光介质一起使用的旋转抛光垫的制备方法，该方法包括：

确定抛光介质的流径；

确定将要在旋转抛光垫中形成的作为抛光介质流径的函数的凹槽的凹槽形状和凹槽取向；

在所述旋转抛光垫中形成大量具有所述凹槽形状和凹槽取向的凹槽。