[发明专利]光学扫描装置和利用光学扫描装置的图像形成设备

权利要求书

1.一种光学扫描装置，该光学扫描装置包括：

聚光光学系统，其被配置为聚集从光源装置发射的光束；

偏转装置，其被配置为以扫描方式偏转由所述聚光光学系统聚集的光束；以及

成像光学系统，其被配置为将由所述偏转装置以扫描方式偏转的光束成像在待扫描表面上；

其中，所述偏转装置具有偏转表面，所述偏转表面被配置为在主扫描截面内往复运动，并且以扫描方式偏转来自所述聚光光学系统的光束，

其中，当所述偏转表面在主扫描截面内往复运动时，所述偏转表面接收能够引起关于副扫描方向不对称的其变形的角加速度，并且，

其中，所述聚光光学系统被配置为将来自所述光源装置的光束聚集到所述偏转表面的一个区域中，所述区域位于所述偏转表面的关于副扫描方向的中心线的一侧，在所述一侧，副扫描方向上的所述偏转表面的不对称变形的量小于另一侧的所述不对称变形的量。

2.如权利要求1所述的光学扫描装置，其中所述偏转装置的所述偏转表面仅在副扫描方向的一侧由支持装置支持，并且其中，由所述聚光光学系统聚集的光束被聚集到所述偏转表面的副扫描方向上的中心线的一侧上的所述偏转表面的一个区域中，所述一侧与所述支持装置支持所述偏转表面的那一侧相对。

3.如权利要求1所述的光学扫描装置，其中所述聚光光学系统被配置为聚集来自所述光源装置的光束，以便在所述偏转表面上形成聚焦线，并且其中，当光束的聚焦线的方向和通过所述偏转表面的中心的主扫描方向之间所限定的角由α(度)表示时，满足如下关系：

|α|≤1(度)。

4.如权利要求1所述的光学扫描装置，其中，当由所述聚光光学系统聚集的光束在主扫描截面中被投射时，该光束从所述成像光学系统的光轴方向入射到所述偏转表面上，并且其中，由所述聚光光学系统聚集的光束在副扫描截面内以关于所述成像光学系统的光轴的有限角度入射。

5.如权利要求1所述的光学扫描装置，其中，所述偏转装置包括具有所述偏转表面的可移动板，并且其中，所述可移动板具有不小于100μm且不大于500μm的厚度。

6.如权利要求1所述的光学扫描装置，其中，所述偏转装置的所述偏转表面在基准频率之上叠加基准频率的n倍的频率的同时被驱动，其中n是整数。

7.一种光学扫描装置，该光学扫描装置包括：

聚光光学系统，其被配置为聚集从光源装置发射的光束；

偏转装置，其被配置为以扫描方式偏转由所述聚光光学系统聚集的光束；以及

成像光学系统，其被配置为将由所述偏转装置以扫描方式偏转的光束成像在待扫描表面上；

其中，所述偏转装置具有偏转表面，所述偏转表面被配置为在主扫描截面内往复运动，并且以扫描方式偏转来自所述聚光光学系统的光束，

其中，由支持部件在关于副扫描方向的两侧支持所述偏转表面，并且

其中，所述聚光光学系统被配置为将来自所述光源装置的光束聚集到所述偏转表面的一个区域中，所述区域位于从所述偏转表面的关于副扫描方向的中心线起在副扫描方向上的0.25xH的范围内，其中所述偏转表面在副扫描方向上的宽度由H(μm)表示。

8.如权利要求7所述的光学扫描装置，其中，所述聚光光学系统被配置为聚集来自所述光源装置的光束，以便在所述偏转表面上形成聚焦线，并且其中，当光束的聚焦线的方向和通过所述偏转表面的中心的主扫描方向之间所限定的角由α(度)表示时，满足如下关系：

|α|≤1(度)。

9.如权利要求7所述的光学扫描装置，其中，当由所述聚光光学系统聚集的光束在主扫描截面中被投射时，该光束从所述成像光学系统的光轴方向入射到所述偏转表面上，并且其中，由所述聚光光学系统聚集的光束在副扫描截面中以关于所述成像光学系统的光轴的有限角度入射。

10.如权利要求7所述的光学扫描装置，其中，所述偏转装置包括具有所述偏转表面的可移动板，并且其中，所述可移动板具有不小于100μm且不大于500μm的厚度。

11.如权利要求7所述的光学扫描装置，其中，所述偏转装置的所述偏转表面在基准频率之上叠加基准频率的n倍的频率的同时被驱动，其中n是整数。