[发明专利]光半导体装置有效
申请号: | 200810005763.X | 申请日: | 2008-02-04 |
公开(公告)号: | CN101320763A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
发明(设计)人: | 石村荣太郎;田中芳和 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0224 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种光半导体装置,其特征在于,
具有:绝缘性的台座;在所述绝缘性的台座的上表面配置的芯片;以及低电压电极,在所述绝缘性的台座的上表面以包围所述芯片的方式配置,
所述芯片具有:第一导电型半导体层;形成在所述第一导电型半导体层的上表面的一部分上的第二导电型半导体区域;覆盖所述第一导电型半导体层以及所述第二导电型半导体区域的上表面的表面保护膜;与所述第一导电型半导体层连接的第一电极;以及第二电极,通过在所述表面保护膜上设置的开口,与所述第二导电型半导体区域连接,对其施加比所述第一电极低的电压,
所述低电压电极被施加比所述第一电极低的电压。
2.如权利要求1的光半导体装置,其特征在于,
所述低电压电极与所述第二电极电连接。
3.如权利要求2的光半导体装置,其特征在于,
还具有连接在所述低电压电极与所述第二电极之间的阻抗为20Ω以上的高阻抗部。
4.一种光半导体装置,其特征在于,具有:
第一导电型半导体层;
形成在所述第一导电型半导体层的上表面的一部分上的第二导电型半导体区域;
覆盖所述第一导电型半导体层以及所述第二导电型半导体区域的上表面的表面保护膜;
与所述第一导电型半导体层连接的第一电极;
第二电极,通过在所述表面保护膜上设置的开口,与所述第二导电型半导体区域连接,对其施加比所述第一电极低的电压;以及
低电压电极,在所述表面保护膜上以包围所述第二电极的方式配置,并且被施加比所述第一电极低的电压。
5.如权利要求4的光半导体装置,其特征在于,
还具有高电压电极,以包围所述第二电极的方式配置在所述低电压电极和所述第二电极之间,对其施加比所述第二电极或者所述低电压电极高的电压。
6.如权利要求4的光半导体装置,其特征在于,
还具有覆盖所述表面保护膜的端部的金属膜。
7.如权利要求4的光半导体装置,其特征在于,
在所述表面保护膜上,以包围所述第二电极的方式在所述低电压电极和所述第二电极之间设置开口,所述第一导电型半导体层从所述开口露出。
8.如权利要求5的光半导体装置,其特征在于,
所述高电压电极与所述第一导电型半导体层电连接。
9.如权利要求4的光半导体装置,其特征在于,
以包围所述第二电极的方式,在所述低电压电极和所述第二电极之间,在所述第一导电型半导体层的表面形成槽,
还具有形成在所述表面保护膜上的用于覆盖所述槽的金属膜。
10.如权利要求9的光半导体装置,其特征在于,
所述金属膜与所述槽的外侧的所述第一导电型半导体层电连接。
11.一种光半导体装置,其特征在于,
具有:绝缘性的台座;在所述绝缘性的台座的上表面配置的芯片;以及高电压电极,在所述绝缘性的台座的上表面以包围所述芯片的方式配置,
所述芯片具有:第一导电型半导体层;形成在所述第一导电型半导体层的上表面的一部分上的第二导电型半导体区域;覆盖所述第一导电型半导体层以及所述第二导电型半导体区域的上表面的表面保护膜;与所述第一导电型半导体层连接的第一电极;以及第二电极,与所述第二导电型半导体区域连接,对其施加比所述第一电极高的电压,
所述高电压电极被施加比所述第一电极高的电压。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的