[发明专利]X射线光栅相衬成像系统及方法有效

专利信息
申请号: 200810005766.3 申请日: 2008-02-04
公开(公告)号: CN101576515A 公开(公告)日: 2009-11-11
发明(设计)人: 康克军;黄志峰;张丽;陈志强;李元景;刘以农;赵自然;刑宇翔 申请(专利权)人: 同方威视技术股份有限公司;清华大学
主分类号: G01N23/083 分类号: G01N23/083
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 谭祐祥
地址: 100084北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 射线 光栅 成像 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种X射线光栅相衬成像系统,用于对物体进行透视成像,该 系统包括:

X射线发射装置,用于向被检测物体发射非相干的X射线束;

第一和第二吸收光栅,位于X射线束的发射方向上,用于取得X射 线束经过物体的折射角信息;

检测单元,位于被检测物体和所述第一、第二吸收光栅的后面, 用于接收经所述经被检测物体折射的X射线,并将其转换为可识别的 电信号;以及

数据处理单元,用于处理所述电信号并从其中计算出X射线束在 所述物体的各平面位置处的折射角信息;

成像单元,用于重建物体的图像。

2.如权利要求1的系统,其中,所述非相干的X射线束,其能量 范围在几KeV到几百KeV之间。

3.如权利要求2的系统,其中,该X射线发射装置包括X射线源, 该X射线源的焦点尺寸p0满足:

p0>>lp1λ]]>

其中λ为X射线的波长,p1为所述第一吸收光栅(A)的周期,l为 所述第一吸收光栅与所述X射线发射装置的射线源之间的距离。

4.如权利要求3的系统,其中,所述X射线源的焦点尺寸不大于 所述X射线发射装置的临界焦点尺寸的一半,其中所述X射线发射装置 的临界焦点尺寸p0,critical为其中p2为所述第二吸收光栅的 周期,d为所述第一吸收光栅与所述第二吸收光栅之间的距离。

5.如权利要求1的系统,其中,所述X射线发射装置发射锥形 的X射线束。

6.如权利要求1的系统,其中所述第一吸收光栅和第二吸收光 栅(A,B)之间的距离满足方程式其中p1、p2分别为第一、 第二光栅的周期,l为所述X射线发射装置与第一吸收光栅之间的距 离,d为第一和第二吸收光栅之间的距离。

7.如权利要求4的系统,其中X射线源的焦点尺寸大小为 50-1000微米。

8.如权利要求6的系统,其中所述第一吸收光栅和第二吸收光 栅的周期p1、p2在2微米-30微米之间。

9.如权利要求4的系统,其中

所述X射线发射装置包括多缝准直器,其中所述X射线源的焦点 尺寸大于所述X射线发射装置的临界焦点尺寸的一半,所述X射线发 射装置的临界焦点尺寸为

所述多缝准直器放置在所述X射线发射装置与所述第一吸收光栅 之间,并且所述多缝准直器每条缝的宽度不大于所述X射线发射装置 的临界焦点尺寸的一半。

10.如权利要求1或8的系统,其中所述第一和第二吸收光栅采 用重金属作为吸收材料,所述吸收材料的厚度为10微米-100微米。

11.如权利要求1的系统,其中所述检测单元包括矩阵结构的探 测元,每个探测元用于检测X射线的强度变化并转化为可识别的电信 号。

12.如权利要求1的系统,所述数据处理单元通过对所述电信号 进行计算得出X射线的光强变化,并利用所述光强变化的值计算得出 X射线经过被检测物体的折射角。

13.如权利要求12的系统,其中所述数据处理单元通过所述折 射角信息,计算得出对于所述被检测物体成像的像素信息。

14.如权利要求1的系统,其中所述被检测物体位于所述X射线 发射装置与所述第一和第二吸收光栅之间。

15.如权利要求1的系统,其中所述第一吸收光栅和第二吸收光 栅分别位于被检测物体的两侧。

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