[发明专利]X射线光栅相衬成像系统及方法有效
申请号: | 200810005766.3 | 申请日: | 2008-02-04 |
公开(公告)号: | CN101576515A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 康克军;黄志峰;张丽;陈志强;李元景;刘以农;赵自然;刑宇翔 | 申请(专利权)人: | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
主分类号: | G01N23/083 | 分类号: | G01N23/083 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 谭祐祥 |
地址: | 100084北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 光栅 成像 系统 方法 | ||
1.一种X射线光栅相衬成像系统,用于对物体进行透视成像,该 系统包括:
X射线发射装置,用于向被检测物体发射非相干的X射线束;
第一和第二吸收光栅,位于X射线束的发射方向上,用于取得X射 线束经过物体的折射角信息;
检测单元,位于被检测物体和所述第一、第二吸收光栅的后面, 用于接收经所述经被检测物体折射的X射线,并将其转换为可识别的 电信号;以及
数据处理单元,用于处理所述电信号并从其中计算出X射线束在 所述物体的各平面位置处的折射角信息;
成像单元,用于重建物体的图像。
2.如权利要求1的系统,其中,所述非相干的X射线束,其能量 范围在几KeV到几百KeV之间。
3.如权利要求2的系统,其中,该X射线发射装置包括X射线源, 该X射线源的焦点尺寸p0满足:
其中λ为X射线的波长,p1为所述第一吸收光栅(A)的周期,l为 所述第一吸收光栅与所述X射线发射装置的射线源之间的距离。
4.如权利要求3的系统,其中,所述X射线源的焦点尺寸不大于 所述X射线发射装置的临界焦点尺寸的一半,其中所述X射线发射装置 的临界焦点尺寸p0,critical为其中p2为所述第二吸收光栅的 周期,d为所述第一吸收光栅与所述第二吸收光栅之间的距离。
5.如权利要求1的系统,其中,所述X射线发射装置发射锥形 的X射线束。
6.如权利要求1的系统,其中所述第一吸收光栅和第二吸收光 栅(A,B)之间的距离满足方程式其中p1、p2分别为第一、 第二光栅的周期,l为所述X射线发射装置与第一吸收光栅之间的距 离,d为第一和第二吸收光栅之间的距离。
7.如权利要求4的系统,其中X射线源的焦点尺寸大小为 50-1000微米。
8.如权利要求6的系统,其中所述第一吸收光栅和第二吸收光 栅的周期p1、p2在2微米-30微米之间。
9.如权利要求4的系统,其中
所述X射线发射装置包括多缝准直器,其中所述X射线源的焦点 尺寸大于所述X射线发射装置的临界焦点尺寸的一半,所述X射线发 射装置的临界焦点尺寸为
所述多缝准直器放置在所述X射线发射装置与所述第一吸收光栅 之间,并且所述多缝准直器每条缝的宽度不大于所述X射线发射装置 的临界焦点尺寸的一半。
10.如权利要求1或8的系统,其中所述第一和第二吸收光栅采 用重金属作为吸收材料,所述吸收材料的厚度为10微米-100微米。
11.如权利要求1的系统,其中所述检测单元包括矩阵结构的探 测元,每个探测元用于检测X射线的强度变化并转化为可识别的电信 号。
12.如权利要求1的系统,所述数据处理单元通过对所述电信号 进行计算得出X射线的光强变化,并利用所述光强变化的值计算得出 X射线经过被检测物体的折射角。
13.如权利要求12的系统,其中所述数据处理单元通过所述折 射角信息,计算得出对于所述被检测物体成像的像素信息。
14.如权利要求1的系统,其中所述被检测物体位于所述X射线 发射装置与所述第一和第二吸收光栅之间。
15.如权利要求1的系统,其中所述第一吸收光栅和第二吸收光 栅分别位于被检测物体的两侧。
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