[发明专利]发光装置有效
申请号: | 200810005811.5 | 申请日: | 2008-02-05 |
公开(公告)号: | CN101242692A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 洼田岳彦 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H05B33/26 | 分类号: | H05B33/26;H05B33/22;H05B33/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
技术领域
本发明涉及使用了有机EL(Electroluminescence)元件等发光元件的发光装置。
背景技术
公知一种发光装置,其在基板上的有效区域配置有多个发光元件,在围绕有效区域的周边区域配置有各种配线等。各发光元件具有夹在第一电极和第二电极之间、用有机EL材料等发光材料形成的发光层。在多数场合下,该第二电极是针对多个发光元件共通而设置的公共电极,横跨所述有效区域而设置。但是,由于电极自身具有的阻抗而使得在电极面内发生电压下降,供给到发光元件的电位可能因在基板上的位置不同而产生离散,故发光元件的亮度可能因位置不同而产生离散。于是,一直以来,设置有用比公共电极更低阻抗的材料形成且和公共电极电连接的辅助电极,由此降低公共电极的阻抗(例如,专利文献1)。
专利文献1:特开2002-352963号公报
但是,辅助电极例如多数情况下用铝等的遮光性构件形成。因此,理想是以通过发光元件的间隙区域的方式形成,以使来自发光元件射出的光不会被遮挡,理想的是采用高精度的位置对准机构而形成。与此相对,公共电极用光透过性的材料形成,与覆盖有效区域全部的区域同样形成。由此,和辅助电极比较,可允许位置对准中的误差。由此,与辅助电极相比,公共电极的位置对准误差成为问题。因此,理想的是以可吸收公共电极的误差的方式充分确保基板上周边区域的宽度(所谓“额缘区域”),这一点成了装置小型化的妨碍。
另外,用于控制发光元件的发光的晶体管等电路元件配置于公共电极和辅助电极的下层。因此,在公共电极及辅助电极之间设置有绝缘层,以使公共电极及辅助电极自电路元件绝缘。但是,在绝缘层含有台阶时,在和该台阶重合的上层部分在电极上可能产生断线或龟裂。由于在产生断线和龟裂的部位电极的阻抗值增加,因此发光元件的亮度不匀较明显。
发明内容
本发明是鉴于上述事情而提出,以提供一种可以缩小发光装置的额缘区域并且可抑制发光元件的亮度不匀的发光装置作为解决课题。
为解决上述课题,本发明的第一发光装置,在基板上具有排列有多个发光元件的有效区域和围绕该有效区域的周边区域,所述各发光元件具有第一电极、第二电极、以及位于两者间的发光层,所述第二电极对所述多个发光元件共通地设置,还具有配置有用于控制所述发光元件发光的电路元件的元件层,其中,具有:辅助电极,其与所述第二电极电连接;绝缘层,其配置于所述元件层的上层,并且具有配置于比所述第二电极及所述辅助电极更靠近下层的部分,用于将所述第二电极及所述辅助电极从所述电路元件绝缘,所述第二电极,覆盖所述有效区域,在所述周边区域露出而同样地形成,所述辅助电极,在所述有效区域通过所述多个发光元件的间隙,形成于所述周边区域的局部,在所述周边区域,所述第二电极的端部在所述基板的面内位于比所述辅助电极的端部及所述绝缘层的端部的各个更靠近内侧的位置。
在本发明的发光装置中,辅助电极的端部配置于比公共电极的端部更靠外侧的位置。另外,辅助电极在有效区域以通过发光元件的间隙区域的方式形成。因此,理想的是采用高精度的位置对准机构而形成。与此相反,公共电极同样地在覆盖有效区域全部的区域形成,因此在形成公共电极的时候,并不要求辅助电极那样的位置对准精度。即,多数情况下辅助电极以比公共电极更小的误差形成。由此,根据本发明,和将公共电极的端部配置于比辅助阴极的端部更靠外侧的构成相比,可以对应于辅助电极的误差缩小额缘区域,可以实现装置的小型化。而且,辅助电极以其阻抗比第二电极低的方式构成。尤其是,优选用比第二电极更低阻抗的材料形成。
另外,在本发明的发光装置中,公共电极的端部配置于比绝缘层端部更靠内侧的位置。绝缘层,例如是电路台阶平坦化膜,为了使下层的凸凹平坦化,大多较厚而形成膜。由此,绝缘层端成为大的台阶。与此相反,公共电极多用脆性的材料形成,且较薄地形成,因此,由于绝缘层端部的台阶的影响有时在公共电极上产生断线或龟裂。但是,在本发明中,公共电极的端部配置于比绝缘层的端部更靠内侧的位置,因此可防止公共电极的断线或龟裂。由此,可以将断线和龟裂造成的阻抗值的增加防患于未然。因此,可抑制发光元件的亮度不匀。在本发明的合适的方式中,所述第二电极优选配置于所述辅助电极的下层。根据该方式,可保护第二区域免受外气影响。
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