[发明专利]基板的输送涂布装置

说明书

技术领域

本发明涉及一边将玻璃基板等基板浮起而输送一边在基板上表面涂布涂布液的装置。

背景技术

作为在玻璃基板的表面涂布抗蚀剂等涂布液的装置，有如下类型的装置：即，将玻璃基板吸附固定在工作台上，一边在该玻璃基板上方移动狭缝喷嘴一边从狭缝喷嘴向玻璃基板上表面帘状地供给涂布液的类型的装置及将狭缝喷嘴固定，而在其下方移动玻璃基板的类型的装置。

在专利文献1中公开了沿着将基板浮起而输送的输送方向设置有基板搬入部、涂布处理部和基板搬出部的输送涂布装置。该输送涂布装置在喷出空气而将基板浮起的载台(工作台)的两侧可移动地配置由吸附垫构成的基板输送机构，以吸附了基板的两侧的状态进行输送。

在专利文献2中提出了下述的装置作为一边将基板浮起而输送一边将涂布液涂布在基板上表面的装置，即，设置第一基板输送部和第二基板输送部，通过第一输送部将基板从基板输送部输送至涂布处理部，通过涂布处理部在用第一基板输送部和第二基板输送部保持了基板的两侧的状态下进行涂布，在涂布结束后，第一基板输送部返回至初始的位置，利用第二基板输送部将涂布后的基板从涂布处理部输送至基板搬出部。

专利文献1：日本特开2005-243670号公报

专利文献2：日本特开2006-237482号公报

在专利文献1中，在载台(工作台)的两侧可移动地配置有由吸附垫等构成的基板输送机构，但是为了通过左右的基板输送机构保持玻璃基板的两侧，然后进行输送/涂布，如果左右的基板输送机构的移动不完全同步进行，则在玻璃基板发生歪斜，这成为涂布不均匀的原因。

在专利文献2中，在进行涂布处理时，其是通过左右的输送机构保持玻璃基板的两侧的构造，因此也发生与上述同样的问题。

另外，在专利文献2中，涂布处理中是与专利文献1同样地，左右的全部输送机构都吸附玻璃基板，因此输送机构不能独自地移动，例如不能进行向与玻璃基板的移动方向的反方向移动而返回至开始位置的移动。为此不能缩短生产间隔时间。

发明内容

为了解决上述课题，本发明涉及的一种基板的输送涂布装置，该输送涂布装置是沿着基板的输送方向而连续地配置了基板搬入部、涂布处理部和基板搬出部的基板的输送涂布装置，跨过上述基板输送部、涂布处理部和基板搬出部的全部而配置有工作台，该工作台在上表面形成了用于将基板浮起的空气喷出孔，将仅保持浮起了的基板的一侧而输送的输送机构，在上述工作台的两侧可分别独立移动地配设，各输送机构将一片基板经过上述基板搬入部、涂布处理部和基板搬出部连续地输送而不向另外的输送机构交接。

其可以构成为，在上述涂布处理部上，且在与基板的输送方向相正交的方向配设有两根独立控制的狭缝喷嘴。由此，可以通过一台涂布装置交替地或者连续涂布不同的涂布液。

另外，一种输送涂布方法，该输送涂布方法使用了上述涂布装置，在左右的移动机构中的一个移动机构保持基板的一侧而进行涂布处理的期间，将另一个移动机构避开与正被涂布处理的基板的干扰，同时向与基板的输送方向的反方向移动而返回开始位置。

根据本发明，由于在涂布时只保持基板的一侧，因此不产生如专利文献1和专利文献2所公开的那样在由输送机构保持了基板的两侧时，由于左右的输送机构的同时的偏差所引起的基板的歪斜。

另外，两侧的输送机构可以分别独立移动且由于各输送机构将一片基板经过基板搬入部、涂布处理部和基板搬出部进行输送，从而可以大幅度地缩短生产间隔时间。

附图说明

图1是本发明涉及的基板的输送涂布装置的俯视图。

图2是该输送涂布装置的正视图。

图3是该输送涂布装置的侧视图。

图4的(a)～(c)是说明涂布方法的俯视图。

图5是表示输送机构的返回工序的侧视图。

图6是表示喷嘴移动至待机位置的状态的正视图。

图7是表示输送涂布装置的其它状态的俯视图。

图8是表示输送涂布方法的其它状态的俯视图。

符号说明：1、5、6...工作台；2、7...升降机构；3、8...销；4...校准装置；11、12...轨道；13、14...输送机构；13a、14a...吸附垫；16...门型框；17...狭缝喷嘴；18...管理装置；19...移动机构；S1...基板搬入部；S2...涂布处理部；S3...基板搬出部；W1、W2、W3...基板。

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的最佳实施例进行说明。图1是本发明涉及的基板的输送涂布装置的俯视图，图2是该输送涂布装置的正视图，图3是该输送涂布装置的侧视图。