[发明专利]一种用于光掩模的护罩以及用于使用光掩模的方法无效
| 申请号： | 200810008823.3 | 申请日： | 2008-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101236361A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | T·A·布伦纳;M·S·希布斯 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;杨晓光 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光掩模 护罩 以及 使用 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于光掩模的护罩，其包括透明聚合物层和透明无机层的交替层，其中所述护罩具有至少三个层，外层是所述透明聚合物并且所述聚合物层具有比所述无机层小的折射率。
2.根据权利要求1的护罩，其中透明无机层被夹在两个聚合物层之间。
3.根据权利要求1的护罩，其中所述聚合物层是全氟化聚合物以及所述无机层是二氧化硅。
4.根据权利要求2的护罩，其中所述聚合物层是全氟化聚合物以及所述无机层是二氧化硅。
5.根据权利要求1的护罩，包括五个层，所述五个层分别为透明聚合物的上和下外层、无机材料的内层、以及透明聚合物的中间层。
6.根据权利要求5的护罩，其中所述聚合物层是全氟化聚合物以及所述无机层是二氧化硅。
7.一种使用光掩模的方法，包括以下步骤：
在成像系统中设置光掩模；
在所述光掩模之上设置护罩，所述护罩包括透明聚合物层和透明无机层的交替层，其中所述护罩具有至少三个层，外层是所述透明聚合物，并且所述聚合物层具有比所述无机层小的折射率；以及
成像所述光掩模。
8.根据权利要求7的方法，其中所述护罩具有三个层。
9.根据权利要求8的方法，其中所述聚合物是全氟化聚合物以及所述无机层是二氧化硅。
10.根据权利要求7的方法，其中所述护罩具有五个层。
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