[发明专利]液晶光学元件及其制造方法

权利要求书

1、一种液晶光学元件，具有形成有电极的多个基板、和被所述多个基板夹持的液晶，其特征在于，在所述基板之间配置有具有多个贯通孔或非贯通孔的多孔质结构体，液晶充填并保持在所述贯通孔或非贯通孔中。

2、根据权利要求1所述的液晶光学元件，其特征在于，所述多个贯通孔或非贯通孔形成为圆形形状或六角形状。

3、根据权利要求1或2所述的液晶光学元件，其特征在于，所述多孔质结构体的孔开口率s为50～80％。

4、根据权利要求1或2所述的液晶光学元件，其特征在于，所述多孔质结构体的贯通孔或非贯通孔的间距为50～5000nm。

5、根据权利要求1或2所述的液晶光学元件，其特征在于，对所述多孔质结构体的内壁面实施取向处理，并且对所述基板的配置所述多孔质结构体的面实施取向处理，呈液晶的面内取向中没有各向异性的各向同性，并且不依赖于偏光方向。

6、根据权利要求1或2所述的液晶光学元件，其特征在于，在所述多孔质结构体的上表面或下表面实施黑色处理，进行减少漏光的处置。

7、一种液晶光学元件的制造方法，所述液晶光学元件具有形成有电极的多个基板、和被所述多个基板夹持的液晶，其特征在于，包括：电极形成工序，在由母材构成的基板上形成电极；多孔质结构体形成工序，形成具有多个贯通孔或非贯通孔的多孔质结构体；取向处理工序，对所述多孔质结构体的内壁面进行取向处理；多孔质结构体配置工序，在形成有电极的一个基板上配置所述多孔质结构体；组装工序，将形成有电极的其他基板与配置有多孔质结构体的基板组合；以及液晶注入工序，向组合后的基板之间注入液晶。

8、根据权利要求7所述的液晶光学元件的制造方法，其特征在于，在多孔质结构体形成工序中，通过对高纯度铝材料进行阳极氧化处理来形成氧化铝多孔质结构体。

9、根据权利要求7所述的液晶光学元件的制造方法，其特征在于，在多孔质结构体形成工序中，通过对玻璃、树脂、硅、碳或陶瓷材料进行蚀刻处理来形成多孔质结构体。

10、根据权利要求7至9中的任意一项所述的液晶光学元件的制造方法，其特征在于，还包括：对所述基板的配置所述多孔质结构体的面进行取向处理的工序。

11、一种液晶光学元件的制造方法，所述液晶光学元件具有形成有电极的多个基板、和被所述多个基板夹持的液晶，其特征在于，包括：电极形成工序，在由母材构成的基板上形成电极；配置工序，在形成有电极的一个基板或多个基板上配置高纯度铝材料，或形成高纯度铝膜；多孔质结构体形成工序，通过对高纯度铝材料或高纯度铝膜进行阳极氧化处理，而形成具有多个贯通孔或非贯通孔的多孔质结构体；取向处理工序，对形成后的多孔质结构体的内壁面进行取向处理；组装工序，将形成有电极的其他基板与配置有多孔质结构体的基板组合；以及液晶注入工序，向组合后的基板之间注入液晶。

12、根据权利要求11所述的液晶光学元件的制造方法，其特征在于，还包括：对所述基板的配置所述多孔质结构体的面进行取向处理的工序。