[发明专利]发光二极管及其制作方法、发光二极管的底座的制作方法有效

专利信息
申请号: 200810009367.4 申请日: 2008-02-25
公开(公告)号: CN101521196A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 张铭利;陈炎成 申请(专利权)人: 佰鸿工业股份有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H01L33/00;H01L23/488;H01L23/31;H01L21/50;H01L21/60;H01L21/56;H01L21/48
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光二极管 及其 制作方法 底座
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种具有保护电路的发光二极管,特别涉及一 种具有齐纳二极管的发光二极管、发光二极管的底座及其制作 方法。

背景技术

参阅图1,是以往一发光二极管1,具有一晶粒11、一底座 12、二接脚13及一封胶体14。底座12由塑胶等绝缘材质制成, 并形成有一凹槽121,二接脚13穿设于底座12并延伸至凹槽121 内,晶粒11设置于其中的一接脚13顶面,并电连接二接脚13, 为了防止静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)损毁晶粒11, 另一接脚13顶面设置有一齐纳二极管15,齐纳二极管15电连接 二接脚13,且与晶粒11呈反向并联,当静电放电状况发生时, 齐纳二极管15工作于击穿区而提供低阻抗路径,使得流向晶粒 11的瞬间电流可以分流至齐纳二极管15,而达到静电放电保护 的效果。封胶体14则透过灌注环氧树脂于凹槽121而形成,以保 护晶粒11且晶粒11所发出的光线得以穿透封胶体14。

然而,目前发光二极管1的尺寸越来越小,使得凹槽121的 尺寸也随之减小,前述结构导致晶粒11无法设置于凹槽121的正 中央,使得发光二极管1实际出光效率大打折扣。再者,由于齐 纳二极管15通常呈深色,设置于晶粒11旁边会吸收部分晶粒11 所发射的光线,齐纳二极管15吸光吸热使得晶粒11功率损失约 5~10%外,还降低原先设计的光学效果。

有鉴于此,参阅图2及图3,另一以往发光二极管2,具有一 底座21及二晶粒22,该二晶粒22相互并联并分别设置于底座21 的一凹槽211中,一齐纳二极管23反向并联该二晶粒22,并隐藏 设置于底座21中。在制作发光二极管2时,先将已封装的齐纳二 极管23以表面黏着技术(SMT)设于金属支架24上,再将塑料射 出形成底座21,而后设置该二晶粒22,并将环氧树脂填满该二 凹槽211,以封装该二晶粒22。然而,表面黏着技术的齐纳二极 管无法小型化(目前最小尺寸为0402(1.0×0.5mm)),且需采用特 定矩形的齐纳二极管,当塑料射出形成底座21时,塑料流经齐 纳二极管23角落(尖角)处无法紧密包覆齐纳二极管23且容易产 生空穴(包覆空气),导致成型的底座21出现缺陷,而损及发光 二极管2的信赖度。

发明内容

本发明的目的是在提供一种具有齐纳二极管并提供良好光 学效果的发光二极管及其制作方法。

本发明的另一目的是在提供一种具有齐纳二极管,且安装 于其上的晶粒可提供良好光学效果的发光二极管的底座及其制 作方法。

本发明所述的发光二极管,包含:一底座、一晶粒及一透 明胶体;该底座包括:一金属支架、一齐纳二极管、一导线、 一包覆胶体及一塑料基座;该金属支架具有相互间隔的二支脚; 该齐纳二极管设于其中的一支脚,并电连接该支脚;该导线电 连接该齐纳二极管及另一支脚;该包覆胶体覆盖于该齐纳二极 管及该导线,以完全遮蔽该齐纳二极管及该导线;该塑料基座 容置该二支脚及该包覆胶体,以遮蔽该包覆胶体,并使该二支 脚部分外露于该塑料基座,且该塑料基座形成有一凹槽;该晶 粒用以发出光线,容置于该凹槽,并电连接该二支脚,该透明 胶体设于该凹槽,以将该晶粒封装于该塑料基座上;其中,该 塑料基座具有界定出该凹槽的一底壁面及一环壁面,各该支脚 的一端外露于该底壁面,且另一端延伸至突出该塑料基座;该 晶粒设于另一支脚,且位于该底壁面正中央;该齐纳二极管位 于该支脚靠近该环壁面的一侧。

本发明所述的发光二极管的底座,供该发光二极管的一晶 粒封装其上;该底座包含:一金属支架、一齐纳二极管、一导 线、一包覆胶体及一塑料基座;该金属支架具有相互间隔的二 支脚;该齐纳二极管设于其中的一支脚,并电连接该支脚;该 导线电连接该齐纳二极管及另一支脚;该包覆胶体覆盖于该齐 纳二极管及该导线,以完全遮蔽该齐纳二极管及该导线;该塑 料基座容置该二支脚及该包覆胶体,以遮蔽该包覆胶体,并使 该二支脚部分外露于该塑料基座,且该塑料基座形成有一供容 置该晶粒的凹槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佰鸿工业股份有限公司,未经佰鸿工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810009367.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top