[发明专利]X射线管和X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 200810009401.8 申请日: 2008-01-30
公开(公告)号: CN101236876A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 的场吉毅 申请(专利权)人: 精工电子纳米科技有限公司
主分类号: H01J35/00 分类号: H01J35/00;H01J31/00;G01N23/223
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;刘宗杰
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 射线 分析 装置
【权利要求书】:

1、一种X射线管,包括:

真空室,其内部处于真空状态,并且其包括由X射线透射膜形成的窗口部分,通过该X射线透射膜可以透射X射线;

安装在真空室的内部的电子束源,用于发射电子束;

靶,用于通过用电子束进行照射而产生初级X射线,并且被安装在真空室的内部,以便能够通过窗口部分将初级X射线发射到外部样品;以及

X射线探测元件,其被布置在真空室的内部以便能够探测从样品发射并从窗口部分入射的荧光X射线和散射X射线,用于输出包括荧光X射线和散射X射线的能量信息的信号。

2、根据权利要求1所述的X射线管,其中靶被布置成接近窗口部分或者与窗口部分接触;以及

其中X射线探测元件的光接收面被布置在靶的周围。

3、根据权利要求1所述的X射线管,其中X射线探测元件包括透射孔,该透射孔被布置在电子束源和靶之间的区域处,并且通过该透射孔可以透射电子束。

4、根据权利要求1所述的X射线管,其中靶和窗口部分中的至少一个被设置为地电位或正电位。

5、根据权利要求1所述的X射线管,其中在电子束源和靶之间设置可向电子束的路径伸出并可从电子束的路径缩回的光闸。

6、根据权利要求1所述的X射线管,其中在电子束源和X射线探测元件之间布置屏蔽部件,以用于屏蔽来自电子束源的辐射热。

7、一种X射线分析装置,包括:

根据权利要求1到6中任何一项所述的X射线管;

用于分析信号的分析仪;以及

用于显示分析仪的分析结果的显示部分。

8、根据权利要求7所述的X射线分析装置,其中分析仪和显示部分被设置在真空室中以便构成便携型。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工电子纳米科技有限公司,未经精工电子纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810009401.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top