[发明专利]用于石英玻璃沉积管的连续焙烧方法

权利要求书

1.一种热处理石英沉积管的方法，其中所述热处理在900℃至 1200℃的温度下进行至少125小时，其中石英沉积管由电熔法制成。

2.根据权利要求1的方法，其中石英沉积管在1000℃至1100℃ 的温度下进行热处理。

3.根据权利要求1的方法，其中石英沉积管热处理至少200小时。

4.根据权利要求3的方法，其中石英沉积管热处理至少400小时。

5.根据权利要求1的方法，其中石英沉积管在小于100毫托的真 空环境中进行热处理。

6.根据权利要求5的方法，其中石英沉积管在小于50毫托的真空 环境中进行热处理。

7.根据权利要求6的方法，其中石英沉积管在小于10毫托的真 空环境中进行热处理。

8.根据前述任一权利要求的方法，其中石英沉积管在一种或多种 惰性气体存在的情况下进行热处理。

9.一种根据权利要求1至8中任一项的方法得到的用于制造在 1550纳米波长下具有＜0.25dB/km衰减的光纤的石英沉积管，其中所 述沉积管含有小于100ppm的卤素。

10.根据权利要求9的石英沉积管，其中所述沉积管含有小于 10ppm的卤素。

11.根据权利要求10的石英沉积管，其中所述沉积管含有小于 1ppm的卤素。

12.一种在根据前述权利要求9至11中的任一项的石英沉积管的 基础上制造的光学预制件，其中所述石英沉积管的内表面上已沉积数 层玻璃层，其中由此得到的沉积管收缩得到实心管，即用于通过从所 述光学预制件拉制所述光纤来制造光纤的光学预制件，其中所述光学 预制件具有小于3.0的b/a比率，其中b/a比率描述了所述光学预制件 内包层的外径和纤芯的直径之间的关系。

13.根据权利要求12的光学预制件，其中所述光纤具有小于2.8 的b/a比率。

14.根据权利要求13的光学预制件，其中所述光纤具有小于2.4 的b/a比率。

15.一种从根据权利要求12的光学预制件拉制的光纤，在小于 3.0的b/a比率下具有的1550纳米波长衰减小于0.20dB/km，其中b/a 比率描述了所述光纤的内包层的外径和纤芯的直径之间的关系。

16.根据权利要求15的光纤，其中所述光纤具有小于2.8的b/a 比率。

17.根据权利要求16的光纤，其中所述光纤具有小于2.4的b/a 比率。

18.根据权利要求15的光纤，其中1550纳米波长下衰减小于 0.19dB/km。

19.根据权利要求18的光纤，其中1550纳米波长下衰减小于 0.185dB/km。

20.根据前述权利要求15至19中的任一项的光纤，其中所述光 纤具有小于0.01dB/km的附加损耗。

21.根据权利要求20的光纤，其中所述光纤具有小于0.005dB/km 的附加损耗。