[发明专利]提高电弧离子镀沉积薄膜质量的装置

权利要求书

1、提高电弧离子镀沉积薄膜质量的装置，其特征在于：电弧离子镀沉积装置设有真空室、基体、导磁环、靶材、镀镍纯铁、电磁线圈、引弧线圈、引弧针，真空室内设置基体、导磁环、靶材、引弧针，靶材正面与基体相对，靶材背面设有电磁线圈，在电磁线圈中间安装镀镍纯铁，镀镍纯铁与电磁线圈安装于冷却水内，引弧针连至真空室外的引弧线圈，导磁环设置于靶材外周；采用双层带孔挡板放置于电弧离子镀沉积装置的靶材与基体之间，与靶材和基体同轴放置，双层带孔挡板与靶材以及基体之间的距离相等，基体后放置增强磁场的发生装置；

双层带孔挡板为带孔挡板I、带孔挡板II同轴平行放置，带孔挡板I、带孔挡板II上的孔相互错开，挡板之间的距离可调；

双层带孔挡板为正多边形或者圆形，双层带孔挡板中的孔形状是圆形、方形、椭圆形或三角形，两层挡板中的孔形状一致。

2、按照权利要求1所述的装置，其特征在于：双层带孔挡板与靶材以及基体之间的距离可调，双层带孔挡板悬浮放置或固定在真空室壁上接地放置。

3、按照权利要求1所述的装置，其特征在于：基体后放置的增强磁场发生装置为增强磁场线圈，增强磁场线圈同靶材、双层带孔挡板同轴放置，线圈位置可调。

4、按照权利要求3所述的装置，其特征在于：增强磁场线圈形状是方形的或者圆形的。

5、按照权利要求3所述的装置，其特征在于：增强磁场线圈产生的磁场大小可调，磁场的极性可调；增强磁场线圈产生的磁场极性与放置于靶材后面的磁场发生装置产生的磁场极性相同，磁极按S-N-S-N或者N-S-N-S分布。