[发明专利]基片梯度加热器无效
申请号: | 200810011450.5 | 申请日: | 2008-05-15 |
公开(公告)号: | CN101307434A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 陆文琪;徐军;董闯 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 | 代理人: | 侯明远;李宝元 |
地址: | 116024辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 梯度 加热器 | ||
【权利要求书】:
1.基片梯度加热器,其特征是使用直管形状的辐射加热管作为热源加热基片台(1),加热管(2)的外径为8~10mm,热源利用石英远红外辐射或碳纤维辐射;基片台(1)为厚1~2mm、用金属或合金材料制成的长方形薄板或梯形薄板,基片台(1)朝向加热管的一面与加热管相距1.5~3mm;基片台(1)上温度为梯度分布,基片(6)与基片台接触,通过热传导获得热量被加热。
2.根据权利要求1所述的基片梯度加热器,其特征是:壳体(7)用金属薄板制成双层结构,双层金属壳体中间为空隙或用保温材料填充。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的