[发明专利]一种高透氢选择性金属钯复合膜的制备方法有效
申请号: | 200810013153.4 | 申请日: | 2008-09-10 |
公开(公告)号: | CN101670245A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 徐恒泳;唐春华;李春林;葛庆杰 | 申请(专利权)人: | 徐恒泳;唐春华;李春林;葛庆杰 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D69/12;C23C18/32 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人: | 马 驰;周秀梅 |
地址: | 116023*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高透氢 选择性 金属 复合 制备 方法 | ||
1.一种高透氢选择性金属钯复合膜的制备方法,其特征在于:
1)首先通过化学镀在多孔支撑体的表面镀钯使其表面小孔得到 封堵;
2)然后再以负载钯的粒子填入到表面大孔或缺陷中进行修饰;
3)最后采用化学镀形成高透氢选择性金属钯复合膜;
所述步骤1)中的化学镀过程按常规方法进行,采用含有钯离子 的镀液在多孔支撑体的表面镀0.1~2μm的钯膜;化学镀液组成为: [Pd(NH3)2]Cl2:1~8g/L,EDTA·2Na:20~90g/L,NH2-NH2·H2O:0.2~1g/L, 28%的NH3·H2O:100~500ml/L,pH=9~11;化学镀的温度为50℃,时 间5~120min;
所述步骤2)中的负载钯的粒子填入的过程采用抽空和/或加压 的方式于含有钯的粒子的悬浮液中进行,采用抽空方式时,其真空度 为-0.005~-0.095MPa,采用加压方式时,其压力为0.05~1MPa;抽空 和/或加压的时间为2min~120min;
所述步骤3)中的化学镀过程按常规方法进行,采用含有钯离子 的镀液在多孔支撑体的表面镀1~15μm的钯膜;化学镀液组成为: [Pd(NH3)2]Cl2:1~8g/L,EDTA·2Na:20~90g/L,NH2-NH2·H2O:0.2~1g/L, 28%的NH3·H2O:100~500ml/L,pH=9~11;化学镀的温度为50℃,时 间30~600min。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于:所述步骤2)中的 负载钯的粒子为负载型钯/金属氧化物。
3.按照权利要求2所述的方法,其特征在于:所述负载型钯/金 属氧化物为Pd/Al2O3、Pd/ZrO2、Pd/CeO2和/或Pd/TiO2,其中钯的担 载量分别为0.2~15wt%。
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