[发明专利]阵列深孔电解加工方法及装置有效

专利信息
申请号: 200810022329.2 申请日: 2008-07-09
公开(公告)号: CN101327538A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 朱荻;王维;曲宁松;严德荣 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: B23H9/14 分类号: B23H9/14;B23H3/00;B23H3/04;B23H3/10;B23H7/26
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 魏学成
地址: 210016*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 阵列 电解 加工 方法 装置
【权利要求书】:

1、一种阵列深孔电解加工方法,其特征在于包括以下步骤:

(a)、利用电极管夹持模块夹持系列电极管,夹持模块安装于模块框架(4)上;

(b)、利用固紧装置调节电极管的夹持力;

(c)、控制机床进给,当进给到电极管与工件(11)接触的位置时,仍继续进给一定的距离,大小视电极管工作端(13)的位置差而定,电极管将在工件的作用下克服摩擦力上行,最终使得群电极管的下端面,即电极管加工端(13)保持同时接触工件,此时利用固紧装置将电极管全部紧固,并控制机床主轴(10)回退一定距离,这个距离即为初始加工间隙。

2、根据权利要求1所述的阵列深孔电解加工方法,其特征在于:所述电极管(2)直接与电解液系统的供液部分相连通,以给加工区供液。

3、根据权利要求1所述的阵列深孔电解加工方法,其特征在于:针对各种加工面为曲面的工件进行电极管的一次性快速修正与对刀。

4、根据权利要求2所述的阵列深孔电解加工方法,其特征在于:所述电解液系统的供液部分与所述模块框架形成密闭腔体,该密闭腔体即为供液腔(6)。

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