[发明专利]电沉积铬基二元颗粒复合增强表面处理活塞环及其生产方法无效

专利信息
申请号: 200810022748.6 申请日: 2008-07-28
公开(公告)号: CN101328603A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 魏青松;吴申庆 申请(专利权)人: 魏青松;吴申庆
主分类号: C25D15/00 分类号: C25D15/00;C25D3/04;C25D7/04;F16J9/00
代理公司: 扬州市锦江专利事务所 代理人: 江平
地址: 211400江苏省仪征市西园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 沉积 二元 颗粒 复合 增强 表面 处理 活塞环 及其 生产 方法
【权利要求书】:

1.电沉积铬基二元颗粒复合增强表面处理活塞环,包括铸铁基层,在铸铁基层的外圆表面设有厚度0.08-0.15mm的铬层,其特征在于:所述铬层中均匀分散有二硫化钼粉末和石墨粉末,二硫化钼粉末和石墨粉末的粒径为0.7-1.5μm,其中,二硫化钼粉末和石墨粉末的体积比为0.5-1.5,二硫化钼粉末和石墨粉末的体积之和为铬层体积的0.025-0.05倍。

2.如权利要求1所述的电沉积铬基二元颗粒复合增强表面处理活塞环的生产方法,依次包括以下工艺步骤:

a)对铸铁基质的活塞环坯件进行镀前去油,清洗表面;

b)对活塞环坯件进行喷砂处理,使活塞环坯件表面呈均匀的瓦灰色;

c)把活塞环坯件放进电镀液一中进行反向刻蚀:电镀液一以水为溶剂,其中溶有铬酐150-200克/升;电镀液一中三价铬小于10.5克/升;进行反向刻蚀时,电压3-5伏,时间35-65秒,在55-65℃度进行刻蚀;

d)在电镀液二中进行电镀:电镀液二以水为溶剂,溶有铬酐200-400克/升,硫酸1.2-3.5克/升,将粒径0.7-1.5μm、体积比为0.5-1.5的二硫化钼粉末和石墨粉末加入电镀液中,加入量为5-25克/升,均匀混合;要求电镀液二中三价铬小于10.5克/升,铁离子小于10.5克/升;将反向刻蚀后的活塞环坯件放入电镀液二中进行电镀,电镀时的温度57-65℃、电流800-1800安培,电镀过程中,不断通入空气搅拌,使二硫化钼粉末和石墨粉末能保持均匀分散在电镀液二中;电镀至活塞环坯件外圆面形成的铬层的厚度为0.10-0.20mm,成为半成品活塞环,该半成品活塞环中,二硫化钼粉末和石墨粉末的体积和为铬层体积的0.025-0.05倍;

e)将半成品活塞环放入研磨缸中并加入研磨砂进行磨合,磨合至铬层厚度为0.08-0.15mm,同时铬层的表面圆整、平滑,成为成品活塞环。

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