[发明专利]248纳米波段的零级抑制相位掩模有效
| 申请号： | 200810023116.1 | 申请日： | 2008-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN101315440A | 公开（公告）日： | 2008-12-03 |
| 发明（设计）人： | 刘全;吴建宏;胡祖元;陈新荣;李朝明 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 248 纳米 波段 抑制 相位 | ||
【权利要求书】：
1.一种248纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石基基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为1050nm～1090nm，槽形深度为240～260nm，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形，梯形的顶部占宽比为0.40～0.46，梯形角为5～13度；所述梯形角是指梯形的腰与高之间的夹角a/Λ定义为顶部占宽比，a为梯形的上底，Λ代表相位掩模的周期。
2.根据权利要求1所述的零级抑制相位掩模，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为1070nm，槽形深度为250nm，梯形的顶部占宽比为0.425，梯形角为10度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学，未经苏州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810023116.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
