[发明专利]X射线全息衍射光栅分束器无效
申请号: | 200810024295.0 | 申请日: | 2008-05-29 |
公开(公告)号: | CN101295553A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 刘颖;谭鑫;徐向东;洪义麟;付绍军 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G21K1/06 | 分类号: | G21K1/06;G03F7/20;G03H1/08 |
代理公司: | 合肥金安专利事务所 | 代理人: | 金惠贞 |
地址: | 230026*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 全息 衍射 光栅 分束器 | ||
1.X射线全息衍射光栅分束器,包括光栅基片,所述光栅基片一侧面为光面,另一侧面上设有工作光栅和调试光栅,其特征在于:
所述调试光栅的栅线包含着工作光栅的栅线,且调试光栅和工作光栅分别居于同一基底的上、下部分,
所述工作光栅和调试光栅的线密度与各自工作波长成反比,且工作光栅与调试光栅的线密度之比为16-165;
所述调试光栅是全息双频光栅,全息双频光栅的拍频光栅线密度是两次曝光产生的干涉条纹线密度之差,全息双频光栅的拍频光栅线密度即为调试光栅的线密度。
2.一种制造如权利要求1所述的X射线全息衍射光栅分束器的方法,包括全息曝光、显影和后续处理工序,其特征在于:
所述曝光包括第一次全息曝光和第二次全息曝光;
第一次全息曝光是将光栅基片的一侧面全部面积进行曝光,
第二次全息曝光是第一次曝光后的光栅基片的一部分进行遮挡,对未遮挡部分进行第二次曝光。
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