[发明专利]表面等离子体激元慢光陀螺及其制备方法

权利要求书

1.一种表面等离子体激元慢光陀螺，其特征在于该表面等离子体激元慢光陀螺包括干涉型波导陀螺和谐振型波导陀螺；所述慢光陀螺包括SPPs波导(41)、SPPs耦合器(43、44)、探测器(45)、SPPs金属波导(3)，其中，SPPs波导(41)通过SPPs耦合器(43、44)分别与SPPs金属波导(3)和探测器(45)相连接。

2.据权利要求1所述的表面等离子体激元慢光陀螺，其特征在于所述的干涉型波导陀螺的SPPs波导(41)为一个开环形的SPPs波导，SPPs耦合器(44)为一个分束器，探测器(45)位于SPPs金属波导(3)上。

3.据权利要求1所述的表面等离子体激元慢光陀螺，其特征在于所述的谐振型波导陀螺的SPPs波导(41)为一个闭环的SPPs波导，SPPs耦合器(43)的一端连接SPPs波导(41)，另一端分别连接两个SPPs金属波导(3)，在每个SPPs金属波导(3)上都设有一个探测器(45)。

4.据权利要求1或2或3所述的表面等离子体激元慢光陀螺，其特征在于SPPs金属波导(3)为周期性突起的金属纳米颗粒(31)、纳米缺陷(32)、一维纳米线(33)、二维纳米薄膜(34)或纳米点阵(35)，所述的金属包括在可见光、近红外光波段呈现负介电常数的金属，与SPPs金属波导(3)匹配的电介质材料(2)包括光学透明性高的有机聚合物材料、玻璃材料或金属氧化物材料。

5.一种用于权利要求1所述的表面等离子体激元慢光陀螺的制备方法，其特征在于采用真空蒸镀法、或旋转涂敷法、或真空溅射法制备电介质和金属纳米薄膜，利用机械法、电化学蚀刻法、激光全息光刻技术或等离子刻蚀法对金属薄膜进行精细加工，制备具有特定结构的金属纳米缺陷、纳米颗粒、纳米线、纳米薄膜或纳米点阵环路，形成SPPs波导(41)、SPPs耦合器(43、44)、探测器(45)、SPPs金属波导(3)，制成表面等离子体激元慢光陀螺。