[发明专利]监控光阻涂布量变异之方法及其装置

权利要求书

1.一种监控光阻涂布量变异之方法，该方法包含下列步骤：

(A)提供一基板，并在该基板上形成一层光阻；

(B)将该光阻中的溶剂水气抽至第一容置槽中；

(C)控制该第一容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶剂液体；

(D)抽取该溶剂液体，并检测该溶剂液体之剂量；

(E)藉由该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关系得知该光阻量。

2.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中在步骤(E)中，当该光阻量高于一定值时，则减少该光阻量之厚度。

3.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中在步骤(E)中，当该光阻量低于一定值时，则增加该光阻量之厚度。

4.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中在步骤(E)中，当该光阻量为一定值时，则将该溶剂液体抽至第二容置槽中。

5.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中在步骤(C)中，当该第一容置槽中的该气压降低时，可使该溶剂水气液化成该溶剂液体。

6.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中在步骤(D)中，该溶剂液体是流入一检测装置中，而该检测装置用来检测该溶剂液体之剂量。

7.根据权利要求6所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中该检测装置包含：

一流量计，其是连接该第一容置槽，并显示通过该流量计的该溶剂液体之剂量；

一第三容置槽，其是连接该流量计，该溶剂液体可通过该 流量计并流入该第三容置槽中。

8.根据权利要求7所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中该流量计为一数字流量计。

9.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中形成该层光阻的方式为涂布方式。

10.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中该基板为半导体基板。

11.根据权利要求1所述监控光阻涂布量变异之方法，其特征是，其中该光阻可为正光阻或负光阻。

12.一种监控光阻涂布量变异之装置，包含：

一腔室，其是用来放置一基板，并在该基板上形成一层光阻；

一第一容置槽，其是连接该腔室，并将该光阻中的溶剂水气抽至该第一容置槽中，控制该第一容置槽中的气压，使该溶剂水气液化成溶剂液体；

一检测装置，其是连接该第一容置槽；以及

一第二容置槽，其是连接该检测装置，先将该溶剂液体抽至该检测装置中，再从该检测装置将该溶剂液体抽至该第二容置槽中，藉由该检测装置显示的该溶剂液体之剂量，和该溶剂液体之剂量与该光阻的比例关系可得知该光阻量。

13.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，其中该检测装置包含：

一流量计，其是连接该第一容置槽，并显示通过该流量计的该溶剂液体之剂量；

一第三容置槽，其是连接该流量计与该第二容置槽，该溶 剂液体可通过该流量计并流入该第三容置槽中。

14.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，其中该流量计为一数字流量计。

15.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，其中形成该层光阻的方式为涂布方式。

16.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，其中当该第一容置槽中的该气压降低时，可使该溶剂水气液化成该溶剂液体。

17.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，更包含第一泵，其是连接该腔室与该第一容置槽，用来将该光阻中的溶剂水气抽至该第一容置槽中。

18.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，更包含第二泵，其是连接该检测装置与该第二容置槽，用来将该溶剂液体抽至该检测装置中，或从该检测装置将该溶剂液体抽至该第二容置槽中。

19.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，其中该基板为半导体基板。

20.根据权利要求12所述监控光阻涂布量变异之装置，其特征是，其中该光阻可为正光阻或负光阻。