[发明专利]液晶残量警示系统及其方法有效
申请号: | 200810028255.3 | 申请日: | 2008-05-23 |
公开(公告)号: | CN101587246A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 何恭育;程大富 | 申请(专利权)人: | 深超光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G08B21/18 |
代理公司: | 东莞市中正知识产权事务所 | 代理人: | 侯来旺 |
地址: | 518109广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 警示 系统 及其 方法 | ||
技术领域
本发明主要涉及一种减少液晶残量的系统及其方法,尤其是指将液 晶储存装置倾斜设置于支撑装置的一种液晶残量警示系统及其方法。
背景技术
在TFT LCD产业中,液晶的价格昂贵,在Cell制程中,如何减少液 晶储存装置中的无法继续滴定的剩余液晶量是有效利用液晶以及节约成本 的一大问题。
在以往的制程中,液晶储存装置都是直立放置,并且依靠作业员的肉 眼去判断何时更换液晶储存装置,在判断时很容易出现瓶中液晶剩余过多 或者过少的情况,剩余过多则造成浪费,增加成本,剩余过少则容易使吸 管在吸取液晶时吸入气体造成不良,如果能在制程中将液晶储存装置倾斜 一定角度则有利于液晶的集中,减少残余液晶量,并在液晶储存装置中装 入自动液面检测警报装置减少人眼判断产生的误差。
为此,本发明提供一种液晶残量警示系统,藉此改善上述缺失。
发明内容
本发明之主要目的在于,提供一种液晶残量警示系统及其方法,其系 将液晶储存装置倾斜,使得液晶储存装置中的液晶集中便于取得,以减少 液晶储存装置中的液晶残量。
本发明之另一目的在于,提供一种液晶残量警示系统及其方法,其系 使用感测设备量测液晶残量,相较于习知技术以人工方式判定液晶残量的 方式,本发明能有效减少人为判断误差。
本发明之另一目的在于,提供一种液晶残量警示系统及其方法,其系 能有效降低制造成本,并能提升液晶滴定时的良率。
本发明系提供一种液晶残量警示系统及其方法,其包括液晶储存装置 与感测设备,液晶储存装置内系具有一定液晶量,而稳态设置于支撑装置 上的承载槽,且液晶储存装置的底面与水平呈一夹角。再以一感测设备感 测该液晶量之多少,当液晶量低于一特定值,则发出警报信号,藉以提示 更换该液晶储存装置。
本发明的有益效果在于,提供一种液晶残量警示系统及其方法,其系 将液晶储存装置倾斜后稳态放置于支撑装置上,并以感测设备量测液晶残 量,当液晶量低于一特定值,则发出警报信号,藉以提示更换液晶储存装 置,以达到其减少液晶储存装置中的液晶残量,减少人为判断误差,且提 升液晶滴定时的良率的效果。
底下藉由具体实施方式配合所附的图式详加说明,当更容易了解本发 明之目的、技术内容、特点及其所达成之功效。
附图说明
图1为本发明之液晶储存装置与感测设备及支撑装置结构相嵌合或配 合之示意图
图2为本发明支撑装置结构及其内侧壁之纵切面示意图
图3为系本发明支撑装置结构及其内侧壁之另一实施方式之结构示意 图
图4为系本发明支撑装置结构之内侧壁设置反射式感应器之另一实施 方式之部分结构之示意图
图5为系本发明支撑装置结构配合接触式感应器之又一实施方式之结 构之示意图
图6为系本发明支撑装置结构及其承载臂配合重量感应器之又一实施 方式之示意图
图7为系本发明支撑装置结构及其承载臂配合反射式感应器之又一实 施方式之示意图
图8为系本发明之实施流程示意图
图9为系本发明之又一实施方式之示意图
具体实施方式
为能详细说明本发明,请参照图1所示为本发明之液晶储存装置与感 测设备及支撑装置结构相嵌合或配合之示意图,本发明系一种液晶残量警 示系统12,其主要系应用于TFT-LCD产业中。液晶残量警示系统12包括 一液晶储存装置14,液晶储存装置14内有一空间用来储存液晶。由于在 TFT-LCD的Cell段制程中,系以一吸管26吸取液晶的方式从该液晶储存 装置14取出液晶,在制造过程中液晶系不断被消耗的,因此液晶储存装置 14中的液晶量会不断的减少。
在图1的实施方式中的感测设备,包括一重量感应器18及一警报器 20;其中,该重量感应器18与该警报器20分别设置于一支撑装置16上, 且该重量感应器18与该警报器20电讯连接;该重量感应器18系用来量测 该液晶储存装置14中液晶量之多少,当液晶量之重量低于预先设定之特定 值,该重量感应器18发出感应讯号至该警报器20,由该警报器20发出警 报信号。在本发明的较佳实施方式中,特定值系设定于10~40克之间。当 液晶量之重量低于10~40克,该重量感应器18发出感应讯号至该警报器 20。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深超光电(深圳)有限公司,未经深超光电(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810028255.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。