[发明专利]一种制备氮化镓薄膜装置中的气路系统无效
申请号: | 200810028855.X | 申请日: | 2008-06-17 |
公开(公告)号: | CN101368265A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 陈俊芳;李炜;孟然;王辉;郭超峰 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18 |
代理公司: | 广州粤高专利代理有限公司 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510631广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 氮化 薄膜 装置 中的 系统 | ||
1.一种制备氮化镓薄膜装置中的气路系统,其特征在于包括有氮气气源供给系统(1)、若干个有机金属气源进出管路系统(2)、分别与若干个有机金属气源进出管路系统(2)连接的若干个流量控制系统(3)、压力控制系统(4),其中氮气气源供给系统(1)包括与氮气气源连接的两个质量流量计(MFC1、MFC2),其中一个用于控制作为反应气体的氮气流量的质量流量计(MFC1)与反应室(5)直接相连,另一个用于控制作为有机金属气体载气的氮气流量的质量流量计(MFC2)与有机金属气源的进出管路系统(2)相连,每个有机金属气源进出管路系统(2)包括有机金属气源(21)、用于控制有机金属气体的输出和氮气的输入输出的三个控制阀(22、23、24)及其连接管路,其中有机金属气源(21)通过两个控制阀(22、23)及其连接管路分别与氮气气源供给系统(1)及流量控制系统(3)连接,另一个控制阀(24)连接在上述两个控制阀(22、23)之间,流量控制系统(3)包括用于自由切换不同气路,并精确控制各气路流量的质量流量计(MFC3),压力控制系统(4)包括与若干个流量控制系统(3)连接的压力控制阀(41)、压力控制器(42)、针阀(43)及其连接管路,各流量控制系统(3)依次通过压力控制阀(41)、压力控制器(42)、及针阀(42)与反应室(5)连接。
2.根据权利要求1所述的制备氮化镓薄膜装置中的气路系统,其特征在于上述有机金属气源进出管路系统(2)的三个控制阀(22、23、24)为球阀。
3.根据权利要求1所述的制备氮化镓薄膜装置中的气路系统,其特征在于上述压力控制系统(4)的压力控制阀(41)为球阀。
4.根据权利要求1至3任一项所述的制备氮化镓薄膜装置中的气路系统,其特征在于上述有机金属气源进出管路系统(2)设有3个或3个以上,流量控制系统(3)相应也设有3个或3个以上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的