[发明专利]离子型阴极缓冲层材料及其制备方法与应用

权利要求书

1.离子型阴极缓冲层材料，其特征在于该类材料具有如下化学结构式：

其中，n＝1-18；R₃-R₅为碳数为1-18的烷基链；所述R₁和R₂具有如下结构单元中 的一种，且R₁，R₂不同时为苯基：

所述X^-具有如下结构单元中的一种：

2.根据权利要求1所述的离子型阴极缓冲层材料，其特征在于该材料可溶于极性有机 溶剂，具备醇溶性。

3.权利要求1或2所述的离子型阴极缓冲层材料的制备方法，其特征在于包括如下步 骤：

(1)以酚羟基被保护起来后的3，5-二溴苯酚作为反应原料，通过钯催化偶联反应引 入刚性基团R₂及R₃，然后在酸性条件下把被保护起来的酚羟基还原，酚羟基被保护起来后 的3，5-二溴苯酚与刚性基团的摩尔比为2∶1～2.2∶1；

(2)以步骤(1)所得的酚，先后通过与N，N-二甲基-3-氯丙胺盐酸盐和溴乙烷反应， 得到阴离子为溴的目标产物；酚与N，N-二甲基-3-氯丙胺盐酸盐以及反应产物与溴乙烷的 摩尔比均为1∶1.2～1∶2；

(3)以步骤2所得到的阴离子为溴的铵，通过与除Br^-外的阴离子X^-的钠盐进行离子交 换，得到不同阴离子的目标产物；阴离子为溴的铵与钠盐的摩尔比为1∶1.2～1∶3。

4.根据权利要求3所述的离子型阴极缓冲层材料的制备方法，其特征在于所述钯催化 偶联反应引入是指反应物在惰性气体保护下，反应温度范围在70～110℃，反应时间范围 在8～36小时，使用摩尔比为1％～3％的四(三苯基瞵)钯作为催化剂。

5.权利要求1或2所述的离子型阴极缓冲层材料在电致发光显示及照明器件中的应用。