[发明专利]对陶瓷表面进行金属化的方法有效
| 申请号： | 200810030081.4 | 申请日： | 2008-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN101337831A | 公开（公告）日： | 2009-01-07 |
| 发明（设计）人： | 朱元义 | 申请（专利权）人： | 朱元义;朱元术;朱常锋 |
| 主分类号： | C04B41/88 | 分类号： | C04B41/88 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 华辉;周端仪 |
| 地址： | 511442广东省广州市番禺*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷 表面 进行 金属化 方法 | ||
1.一种对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于包括以下步骤：
(1)清洗与活化：以有机酸将陶瓷表面清洗活化，擦干后，再以有机溶剂去除工件 表面的灰尘油污；
(2)烘烤：先于低温130℃～160℃烘烤去除陶瓷内部水汽，冷却后再于高温200℃～ 250℃烘烤使工件内部杂气尽量释放；
(3)炉内加温：将工件挂炉，抽真空，并将炉内加热至200℃或以上；
(4)中频磁控溅射：抽真空后通入氩气和氮气，以锆金属作为靶材，开启磁控溅射 靶进行溅射，保持真空度在4.5～5.5×10-1Pa；
(5)多弧镀膜：充入反应气体和氩气进行多弧离子镀膜，弧源电流120A以上，保 持真空度3.0～6.0×10-1Pa。
2.根据权利要求1所述的对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于：所述步骤(1) 中的有机酸为草酸。
3.根据权利要求1所述的对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于：所述步骤(1) 中的有机溶剂为丙酮。
4.根据权利要求1所述的对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于：所述步骤(4) 中，磁控溅射靶为平面溅射靶或柱状中心旋转靶。
5.根据权利要求1所述的对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于：所述的步骤 (4)中，抽真空至1.0×10-2Pa，再通入氩气和氮气。
6.根据权利要求1所述的对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于：所述的步骤 (5)中，反应气体为氮气、乙炔、氧气、或者乙炔和氮气的混合气体。
7.根据权利要求1所述的对陶瓷表面进行金属化的方法，其特征在于：所述的步骤 (5)中，开启10个多弧离子源进行多弧沉积钛化合物。
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