[发明专利]一种陶瓷砖抛光方法

说明书

技术领域

本发明属于陶瓷砖表面加工技术领域，具体涉及一种陶瓷砖抛光方法。

背景技术

常规的釉质陶瓷砖表面抛光方法，是采用高速旋转的磨轮和冷却液(通常为水)配合，在一定压力下对陶瓷砖釉面进行研磨抛光。然而，目前市场上对釉面陶瓷砖的表面提出了更高的品质需求，要求光泽度要达到90以上，而传统的抛光方法是达不到上述要求的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种陶瓷砖抛光方法，使抛光后的陶瓷砖表面光泽度达到90以上。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：一种陶瓷砖抛光方法，采用抛光液和磨轮配合对陶瓷砖釉面进行研磨抛光，所述抛光液含有氧化铈。

进一步，所述氧化铈需均匀悬浮于抛光液液面上。由于氧化铈不溶于水和碱，可通过搅拌使氧化铈均匀悬浮于抛光液液面。

进一步，所述氧化铈在抛光液的重量百分比为5～40％。

进一步，所述氧化铈的粒度为80～170目。

进一步，适用于本发明的陶瓷砖的釉面硬度为5～8莫氏硬度。

作为优选，抛光过程中磨轮的转速为2000～3000转/分，磨轮施加于陶瓷砖釉面的工作压力为1～4kg/cm²。

本发明利用氧化铈在陶瓷砖抛光过程中具有机械摩擦和化学分解的双重作用，从而达到快速抛光且能使釉面陶瓷砖的表面抛光至光泽度90以上；而且含有氧化铈的抛光液能循环使用，使用寿命长，不污染环境，易于从沾着物上除去。

附图说明

图1是本发明的工作原理图；

图2是图1的A部放大图。

现结合附图和实施例对本发明作进一步说明：

具体实施方式

由于氧化铈不溶于水，因此在搅拌装置中按氧化铈的重量百分比为5～40％的比例调配好抛光液并充分搅拌使氧化铈均匀悬浮于水面上，氧化铈的粒度为80～170目。如图1所示，陶瓷砖抛光时，陶瓷砖在传送带，速度为2～8米/分的运送；由泵将抛光液2输送至各磨轮管路，并直接覆于陶瓷砖3的釉质表面。转速为2000～3000转/分的磨轮1以1～4kg/cm²的压力工作于陶瓷砖釉质表面，抛光液中的氧化铈颗粒充分融入松软的磨轮和陶瓷砖釉质表面之间，产生机械摩擦和化学分解作用，从而达到快速研磨抛光，实现光泽度90以上的高品质陶瓷砖釉抛；而且，抛光液在在陶瓷砖釉质表面流动，能带走大量的切削热量。

本发明适用于陶瓷砖的釉面硬度为5～8莫氏硬度的研磨抛光。