[发明专利]将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法无效

专利信息
申请号: 200810032157.7 申请日: 2008-08-26
公开(公告)号: CN101353795A 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 廖兴盛;周军;朱波 申请(专利权)人: 湖南万容科技有限公司
主分类号: C23F1/46 分类号: C23F1/46;C25C1/12;C22B3/46;C01G49/10;C22B15/00
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 代理人: 魏国先
地址: 410100湖南省*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 印刷 电路板 酸性 蚀刻 废液 制备 聚合 氯化铁 方法
【权利要求书】:

1.一种将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:将印刷电路板酸性蚀刻废液直接电解,回收电解析出的铜粉,向电解后的混合液中投加还原铁,置换混合液的离子铜,回收置换析出的海绵铜,对回收的粗铜纯化制备成铜粉产品;向置换后的混合液中投加氧化铁或含铁物,增大混合液的离子铁浓度;向溶入离子铁的混合液中分别加入聚合稳定剂和氧化剂,同时用酸或碱调节混合液酸碱度,使其发生聚合反应,制备成液态聚合氯化铁或固体聚合氯化铁粉末。

2、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的直接电解采用阴极板、阳极板直接电解,阳极析出气体直接通过碱性吸收塔回收再利用或用于聚合氯化铁制备中含铁物的氧化;或/和采用阴极板、阳极板直接电解,同时在阳极板表面安装能阻止Cl-穿透的隔膜,直接将氯离子截留在电解槽中。

3、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的向电解后混合液中投加还原铁,主要成分为还原铁(Fe)或含还原铁的混合物。

4、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的向置换后混合液中投加氧化铁或含铁物,主要成分为氧化铁(Fe2O3)或含离子铁的混合物。

5、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的向溶入离子铁的混合液中分别加入聚合氧化剂和稳定剂。其中,聚合氧化剂为过氧化氢(H2O2),或氯酸盐类化合物,如氯酸钠、次氯酸钠、高氯酸钠等一种或氯酸盐与氯气或氧气、臭氧、高锰酸钾、羟自由基(OH·)和阴极氧自由基(O2)的混合物;聚合稳定为磷酸盐或含磷酸盐的复合化合物,聚合磷酸盐类化合物,如磷酸氢钠、磷酸氢钙,磷酸铵等一种或两种以上复合化合物。上述聚合氧化剂和聚合稳定剂可以为固体或液体状态。

6、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的用酸或碱调节混合液酸碱度,其中,所用酸包括单独加入盐酸或加入盐酸与硫酸、硝酸、磷酸、次氯酸、碳酸和有机酸等混合酸等混合酸溶液,所用碱包括单独加入氢氧化钠、氢氧化钾,或氢氧化钠、氢氧化钾两种混合碱液,或氢氧化钠、氢氧化钾两种混合碱液与弱碱混合碱液。

7、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:其物料投加摩尔比:[Fe]T浓度为0.5%~15.0%,[Fe2+]/[Fe]T≤0.05;[P]/[Fe]T=0.03~0.10;[OH]/[Fe]T=0.25~1.8,碱化度为7.0%~33.0%。

8、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的发生聚合反应,制备成液态聚合氯化铁,其反应条件为:聚合反应温度为30~70℃,反应时间为0.5~4.0h。

9、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的发生聚合反应,制备成固态聚合氯化铁粉末,其反应条件为:首先在30~70℃温度下反应0.5~4.0h,生成液态聚合氯化铁,然后在常压或减压和温度为50~120℃下蒸馏脱水0.5~10.0h,最终制备成聚合氯化铁浓缩液或聚合氯化铁固体。

10、根据权利要求1所述的将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜和制备聚合氯化铁的方法,其特征在于:所述的聚合氯化铁,其有效成分为:[Fe]T浓度为0.5%~15.0%;[OH]/[Fe]T=0.25~1.8,碱化度为7.0%~33.0%;密度为1.04~1.40kg/m3

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南万容科技有限公司,未经湖南万容科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810032157.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top