[发明专利]一种高熔体强度复合隔离膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种高熔体强度复合隔离膜，为B/A两层或B/A/B三层结构的微孔膜，其中A层为聚乙烯或乙烯与5～50％其它烯烃的共聚物膜，或两者的混合物膜；B层为丙烯与0.1～10％其他烯烃的共聚物膜。

2.如权利要求1所述的高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：B/A两层厚度比2∶1～1∶2。

3.如权利要求1所述的高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：B/A/B三层厚度比2∶6∶2～4∶2∶4。

4.如权利要求1所述的高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：隔离膜的总厚度15～50um。

5.如权利要求1～4所述的任一高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：A层膜所用的聚乙烯或乙烯与5～50％其它烯烃的共聚物，或两者的混合物，其熔点低于135℃。

6.如权利要求1～4所述的任一高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：B层所用的丙烯与0.1～10％其他烯烃的共聚物熔点高于170℃。

7.如权利要求1～4所述的任一高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：所说的聚乙烯为重均分子量为1×10⁴～1×10⁶的高密度聚乙烯。

8.如权利要求7所述的高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：所说的聚乙烯为重均分子量为5×10⁴～3×10⁵的高密度聚乙烯。

9.如权利要求1～4所述的任一高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：所说的乙烯与其它烯烃的共聚物，是指乙烯与丙烯、丁烯、辛烯或己烯的共聚物。

10.如权利要求1～4所述的任一高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：所说的丙烯与其他烯烃的共聚物，是指该共聚物具有等规构型、结晶度达80％～85％。

11.如权利要求1～4所述的任一高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：所说的丙烯与其他烯烃的共聚物，是指丙烯与乙烯、1-丁烯、2-己烯或1-辛烯的共聚物。

12.如权利要求11所述的高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：所说的丙烯与其他烯烃的共聚物，是指丙烯与乙烯的共聚物。

13.如权利要求12所述的高熔体强度复合隔离膜，其特征在于：乙烯的重量含量为丙烯与乙烯重量的0.1～7％。

14.权利要求1～13所述的任一高熔体强度复合隔离膜在锂电池中的应用。

15.权利要求1～13所述的任一高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：采用热诱导相分离方法。

16.如权利要求15所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于热诱导相分离方法的具体步骤如下：

a、先将A层所用的原料在挤出机内共混挤出，B层所用的原料在另一挤出机内挤出，然后将两种挤出物在模头内复合，共挤出骤冷后形成的B/A两层或B/A/B三层结构的均匀厚片；

b、将厚片经双向拉伸制成薄膜；

c、用洗涤剂将步骤b所得薄膜洗脱掉溶剂，然后干燥；

d、将干燥后的薄膜热定型处理。

17.如权利要求16所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：步骤a中，A层所用原料包括聚乙烯或乙烯与5～50％其它烯烃的共聚物、或两者的混合物，另外还包括稀释剂；B层所用原料包括丙烯与0.1～10％其他烯烃的共聚物和稀释剂。

18.如权利要求17所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：稀释剂的含量范围为A层所用原料总重量的40～90％。

19.如权利要求17所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：所说的稀释剂是各种烷烃、石蜡或酯类化合物。

20.如权利要求19所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：所说的烷烃为壬烷或奈烷。

21.如权利要求19所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：所说的石蜡是液体石蜡。

22.如权利要求21所述的高熔体强度复合隔离膜的制备方法，其特征在于：所说的液体石蜡黏度在70～120cst之间。