[发明专利]相变存储器单元器件的结构的改进无效

专利信息
申请号: 200810033601.7 申请日: 2008-02-15
公开(公告)号: CN101267016A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 宋志棠;凌云;龚岳峰;刘波;封松林 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56;G11C16/02
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 潘振甦
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 相变 存储器 单元 器件 结构 改进
【权利要求书】:

1、一种相变存储器单元器件结构的改进,所述的器件由相变材料、绝缘材料、加热电极材料、上、下电极材料组成,其特征在于在电极材料上添加加热电极,加热电极为一层相变材料薄膜,在相变材料薄膜中填加入圆柱形绝热材料或加热材料,填加入的材料和电极构成一个环形。

2、按权利要求1所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于填加入圆柱形绝热材料或加热材料的材料只和下电极接触,与下电极接触面形成一个环状;或与上、下电极构成同心圆柱;相变区域被压缩到环形区域。

3、按权利要求1或2所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于填加入的圆柱形绝热材料或加热材料的热导系数为0.2-2.2k(W/mgk)、电阻率大于104

4、按权利要求1或2所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于填加入的圆柱形绝热材料或加热材料为SiO2、TiO2、ZrO2、Y2O3、HfO2、Ta2O5或ZrO2介质材料,或为非晶的Si、C或GeSi。

5、按权利要求3所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于上、下电极构成的同心圆柱,上、下结构与电极对称,使电场均匀,导致热场均匀。

6、按权利要求1或2所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于所述的上、下电极的尺寸相同或不相同;所述的上、下同心圆柱介质的尺寸相同或不相同,空心圆柱介质材料的半径和厚度依赖于热平衡的计算的改进。

7、按权利要求1或2所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于空心圆柱介质层与相变区域将下电极封盖住,实现多晶导非晶快速散热过程。

8、按权利要求2所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于被压缩到环形区域相变区的设计要考虑保温和散热之间达到最佳匹配;相变区的相变材料为GeSbTe、SiSbTe、SiGe或SiSb。

9、按权利要求1所述的相变存储器单元器件结构的改进,其特征在于加热电极和填加材料大小的最佳匹配通过热传导方程和电场方程的耦合求解得到。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810033601.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top