[发明专利]叠层母排边缘结构无效

专利信息
申请号: 200810033688.8 申请日: 2008-02-19
公开(公告)号: CN101252257A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 龚莉;宋吉波;高乾;康守军;孟庆旭 申请(专利权)人: 上海新时达电气有限公司;上海辛格林纳新时达电机有限公司
主分类号: H02B1/20 分类号: H02B1/20;H01B5/02
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 胡美强
地址: 201802*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 叠层母排 边缘 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种叠层母排,尤其涉及该叠层母排的边缘结构。

背景技术

目前很多电气产品开始使用叠层母排技术,以降低寄生电感,获得最佳的电气性能。然而,由于叠层母排技术将不同导体紧密贴合在绝缘层的两侧,导体间距离非常近,因此导体之间的绝缘成为叠层母排设计的关键因素。

对于叠层母排边缘的绝缘,现有技术中有两种方式:第一种是使绝缘层边缘延伸出导体层边缘,延伸长度为导体间最大爬电距离的1/2;第二种是将延伸出的绝缘层用胶粘剂粘合使其密封,延伸长度可小于第一种方式。然而用胶粘剂粘结并不能保证完全的密封,一旦有空隙存在,且延伸长度不够时就会发生导体间的爬电,造成绝缘失效,形成安全隐患。若要保证安全的爬电距离,绝缘层就必须延伸出相当长的一段距离,不利于节省空间。

发明内容

本发明需要解决的技术问题是提供了一种叠层母排边缘结构,旨在解决上述的问题。

为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:

本发明包括:至少一层以上的导体层、与导体层相应的绝缘层;所述的绝缘层在导体层的二侧;还包括:一个插入导体层和绝缘层之间的包覆层;所述包覆层与导体层和绝缘层两两之间粘合接触,包覆层的端面与导体层和绝缘层的边缘相平。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:通过采用导体边缘包覆的方式节省了空间,并能够保证更加可靠的绝缘。

附图说明

图1为现有技术中叠层母线边缘的第一种结构,其中1为绝缘层,2为导体层;

图2为现有技术中叠层母线边缘的第二种结构,其中10为绝缘层,20为导体层;

图3为本发明的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述:

由图3可见:本发明包括:至少一层以上的导体层200、与导体层200相应的绝缘层100;所述的绝缘层100在导体层200的二侧;还包括:一个插入导体层200和绝缘层100之间的包覆层300;所述包覆层300与导体层200和绝缘层100两两之间粘合接触,包覆层300的端面301与导体层200和绝缘层100的边缘相平;

所述的包覆层300是绝缘胶带或涂层包覆。

在现有技术中绝缘层都需要延伸出导体一段距离,以保证爬电。本发明将导体层边缘向内做足够长度的绝缘包覆,这样就能够保证足够的爬电距离,绝缘层只需同导体层面积相同即可,不需延伸。

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