[发明专利]一种吸阻录气功远距离射线板无效
| 申请号： | 200810033703.9 | 申请日： | 2008-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN101515482A | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | 张国成 | 申请（专利权）人： | 张国成 |
| 主分类号： | G21F1/12 | 分类号： | G21F1/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201105*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸阻录 气功 远距离 射线 | ||
【权利要求书】：
1一种吸阻录气功远距离射线板，包括吸阻录的材料，不限制间距的电路，电子放大线路，处理器，存储器，显示器，语音提示，其特征是吸阻录的材料，分为3层，第1层是吸收气功远距离射线的材料，第2层是阻止气功远距离射线的材料，第3层是测量气功远距离射线的材料，在第3层的后面是不限制间距的电路板，在不限制间距的电路板的后面是电子放大线路，吸阻录的材料相互层叠连接，第3层材料和不限制间距的电路板连接，不限制间距的电路板和电子放大线路连接，电子放大线路和板的所有部件匹配连接。
2根据权利要求1所述的一种吸阻录气功远距离射线板，其特征是吸阻录的材料相互层叠连接可以边框连接，可以螺旋连接，可以铆钉连接。
3根据权利要求1所述的一种吸阻录气功远距离射线板，其特征是第1层铝合金材料，抵消8微米以下和8微米以上的射线材料，第2层纳米密度材料，8微米以下的材料的密度和结构，第3层纳米活动测量材料，8微米以下的材料的电子活动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张国成，未经张国成许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810033703.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
