[发明专利]一种提高质量的镶嵌结构制作方法

权利要求书

1、一种可提高质量的镶嵌结构制作方法，包括以下步骤：a、提供一硅衬底，其上制作有层间介质层；b、在该层间介质层上沉积金属间介质层；c、通过光刻和刻蚀工艺在该金属间介质层上形成用于容置镶嵌结构的容置凹槽；d、在该容置凹槽槽壁上制作扩散阻挡层；e、在该容置凹槽中填充金属铜；f、通过铜化学机械抛光工艺形成镶嵌结构；其特征在于，该方法在步骤b和c间还进行一化学机械抛光步骤以平坦该金属间介质层。

2、如权利要求1所述的可提高质量的镶嵌结构制作方法，其特征在于，该层间介质层为氮化硅。

3、如权利要求1所述的可提高质量的镶嵌结构制作方法，其特征在于，该金属间介质层为二氧化硅或掺杂有硼、磷或氟元素的二氧化硅。

4、如权利要求1所述的可提高质量的镶嵌结构制作方法，其特征在于，该扩散阻挡层为上下层叠的氮化钽和钽。

5、如权利要求1所述的可提高质量的镶嵌结构制作方法，其特征在于，在步骤e中，通过电镀工艺在该容置凹槽中填充金属铜。