[发明专利]制备纳米钨粉工艺无效
申请号: | 200810035770.4 | 申请日: | 2008-04-09 |
公开(公告)号: | CN101554663A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 印中伟 | 申请(专利权)人: | 上海伟良企业发展有限公司 |
主分类号: | B22F9/22 | 分类号: | B22F9/22 |
代理公司: | 上海世贸专利代理有限责任公司 | 代理人: | 李 忠 |
地址: | 201815上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 纳米 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及粉末冶金工艺技术领域。
背景技术
目前的生产技术在制备纳米钨粉时,会出现夹粗颗粒的现象,很难制备出颗粒分布窄,正态分布好的纳米钨粉。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种能有效克服上述缺陷,能生产出颗粒分布窄,正态分布好的纳米钨粉的工艺。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
由于采用上述方案,不难得出如下结论:本发明工艺合理,构思巧妙,当还原钨粉的某一工艺条件变化时,钨粉的粒度随即发生变化,粒度组成也随之变化。因此,通过改变工艺条件或者把不同粒度的钨粉进行混合搭配,就可以得到不同粒度组成的钨粉。要生产粒度均匀的纳米钨粉,最好选择氧指数低的紫钨生产,还原温度要低,还原的温度梯度要小,料层厚度要尽量薄,前三带还原时间充分。上述工艺,根据多次实验及相关部门的检测,最终正证实该工艺制备出的纳米钨粉,其颗粒分布窄,正态分布好,极具推广价值。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步详细描述。
附图是本发明工艺参数的框图。
具体实施方式
将装好物料的舟皿从多管炉炉管头部进入,通过还原工作区,从尾部经过冷却带出料;氢气则是从炉管尾部进入,通过还原工作区与原料参与反应后,从炉管头部出来进入氢气处理装置。其中工艺参数为,氢气含水量:露点≤-76℃;氢气配比架控制压力:20Kpa;多管炉管内氢气压力:7.5Kpa;多管炉氢气返回压力:2.0Kpa;多管炉每根管氢气流量:36M3/H;管内舟皿装料厚度控制:≤5mm;管内舟皿推动速度:25分钟/舟;进入多管炉氢气温度:≤25℃;控制多管炉冷却带温度:≤25℃;多管炉五带温度控制:从炉头至炉尾660℃、700℃、740℃、780℃、840℃。采用上述工艺参数生产出的粒度在<0.4μm的纳米钨粉,能保证不出现夹粗颗粒的现象。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海伟良企业发展有限公司,未经上海伟良企业发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810035770.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种固相法和液相法结合合成阿加曲班的新方法
- 下一篇:普仑司特的制备方法