[发明专利]液晶显示装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810038085.7 申请日: 2008-05-27
公开(公告)号: CN101592827A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 秦锋 申请(专利权)人: 上海广电NEC液晶显示器有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333;G03F7/00;G03F1/00
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 薛 琦;朱水平
地址: 201108上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、一种液晶显示装置,其包括一彩膜基板和一阵列基板,该彩膜基板上形成有多个黑矩阵和色层,该两基板之间具有多个支撑本柱和辅助柱,其特征在于,该支撑本柱和辅助柱制作于阵列基板一侧,每个该支撑本柱和辅助柱分别对应一色层,该辅助柱与对应色层之间的距离大于该支撑本柱与对应色层之间的距离。

2、如权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,该支撑本柱的高度和该辅助柱的高度相等,该支撑本柱对应的色层的厚度大于该辅助柱对应的色层的厚度。

3、如权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,该支撑本柱的高度大于该辅助柱的高度,该支撑本柱对应的色层的厚度大于或等于该辅助柱对应的色层的厚度。

4、如权利要求2或3所述的液晶显示装置,其特征在于,该色层之间存在一厚度差,该厚度差形成于同一颜色的色层之间或不同颜色的色层之间或色层与黑矩阵之间。

5、一种制造如权利要求1所述的液晶显示装置的方法,其包括制造彩膜基板和阵列基板的步骤,该制造彩膜基板的步骤包括在一玻璃基板上形成多个黑矩阵和色层,其特征在于,该制造阵列基板的步骤包括形成多个支撑本柱和辅助柱,在该彩膜基板一侧的需要减小厚度的色层区域和在该阵列基板一侧形成的该辅助柱区域通过半透光方法进行制造。

6、如权利要求5所述的制造方法,其特征在于,该半透光方法为半透掩膜版或灰色调掩膜版的刻蚀方法。

7、如权利要求6所述的制造方法,其特征在于,该半透掩膜版具有至少三种光透过量。

8、如权利要求6所述的制造方法,其特征在于,该灰色调掩膜版具有至少三种光透过量。

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