[发明专利]一种等离子刻蚀残留物清洗液

权利要求书

1、一种等离子刻蚀残留物清洗液，其含有溶剂、水、氟化物和螯合剂，其特征在于：其还含有羟基叔胺和羟基伯胺。

2、如权利要求1所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的清洗液由下述成分组成：溶剂、水、氟化物、螯合剂、羟基叔胺和羟基伯胺。

3、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的羟基叔胺的重量百分比为0.1％～20％。

4、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的羟基伯胺的重量百分比为0.01％～5％。

5、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的溶剂的重量百分比为30％～75％。

6、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的水的重量百分比为15％～65％。

7、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的氟化物的重量百分比为0.1％～20％。

8、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的螯合剂的重量百分比为0.1％～20％。

9、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的羟基叔胺为N，N-二甲基乙醇胺、N，N-甲基乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺和三乙醇胺中的一种或多种。

10、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的羟基伯胺为单乙醇胺、丙醇胺、丁醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。

11、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醚中的一种或多种。

12、如权利要求11所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的亚砜为二甲基亚砜、二乙基亚砜和甲乙基亚砜中的一种或多种；所述的砜为甲基砜、乙基砜和环丁砜中的一种或多种；所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮和1，3-二乙基-2-咪唑烷酮中的一种或多种；所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮和N-羟乙基吡咯烷酮中的一种或多种；所述的咪唑啉酮为1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺为二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺；所述的醚为乙二醇单烷基醚、二乙二醇单烷基醚、丙二醇单烷基醚、二丙二醇单烷基醚和三丙二醇单烷基醚中的一种或多种。

13、如权利要求12所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的乙二醇单烷基醚为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚和乙二醇单丁醚中的一种或多种；所述的二乙二醇单烷基醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和二乙二醇单丁醚中的一种多种；所述的丙二醇单烷基醚为丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚和丙二醇单丁醚中的一种或多种；所述的二丙二醇单烷基醚为二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚和二丙二醇单丁醚中的一种或多种；所述的三丙二醇单烷基醚为三丙二醇单甲醚。

14、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的氟化物为氟化氢、氟化氢铵和氟化氢与碱形成的盐中的一种或多种。

15、如权利要求14所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的碱为氨水、季胺氢氧化物和醇胺中的一种或多种。

16、如权利要求14所述的等离子蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的氟化氢与碱形成的盐为氟化铵、四甲基氟化铵和三羟乙基氟化铵中的一种或多种。

17、如权利要求1或2所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的螯合剂为多氨基有机胺和/或氨基酸。

18、如权利要求17所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的多氨基有机胺为二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺和多乙烯多胺中的一种或多种；所述的氨基酸为2-氨基乙酸、2-氨基苯甲酸、亚氨基二乙酸、氨三乙酸和乙二胺四乙酸中的一种或多种。

19、如权利要求17所述的等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：所述的螯合剂为亚氨基二乙酸和五甲基二乙烯三胺的复配螯合剂，氨三乙酸和五甲基二乙烯三胺的复配螯合剂，或亚氨基二乙酸和二乙烯三胺的复配螯合剂。