[发明专利]在单相溶剂体系中合成聚荧蒽的方法无效

专利信息
申请号: 200810038953.1 申请日: 2008-06-13
公开(公告)号: CN101298491A 公开(公告)日: 2008-11-05
发明(设计)人: 李新贵;黄美荣;廖耀祖;虞洁如 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C08G61/10 分类号: C08G61/10
代理公司: 上海光华专利事务所 代理人: 李强;余明伟
地址: 200092上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单相 溶剂 体系 合成 聚荧蒽 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种在单相溶剂体系中合成聚荧蒽的方法。

背景技术

荧蒽(FA)为稠环芳香烃,化学式为C16H10,分子量为202.260,分子结构如下:

在荧蒽的分子结构中含有共轭苯环,且分子全部由C、H两种元素组成,从其分子结构来看,有潜力成为导电性、耐热性、液晶性以及高产炭率等多功能高分子材料的母体。探索以荧蒽单体合成多功能共轭芳香族聚合物就显得格外有意义。但可惜的是,国内外对聚荧蒽(PFA)的合成报道很少。仅见到电聚合合成聚荧蒽的报道,即在三氟化硼乙醚(BFEE)络合物这一中等强度的Lewis酸介质中,采用电化学聚合法在1.23V vs.SCE的恒电位下氧化荧蒽单体,在阳极上直接合成了导电率为10-2S cm-1数量级的聚荧蒽薄膜,并且对制得的薄膜进行了核磁共振和紫外光谱表征(Xu J K,Hou J,Zhang S S,et al.Electrochemical polymerization of fluoranthene and characterization of itspolymers.Journal of Physical Chemistry B,2006,110:2643-2648.)。在BFEE溶液中可有效降低荧蒽的化学氧化电位,使其氧化电位从在含有四丁基四氟硼酸铵电解质的乙腈介质中的1.68Vvs.SCE降为1.07Vvs.SCE,从而减轻了聚合物薄膜在合成过程中的破坏。荧蒽聚合中的活化点主要发生在C3、C4、C13、C14处。但该法合成的聚荧蒽,热分解温度仅为442℃,残炭率仅为24.5wt%,与理论值相差甚远,还具有极大的提升空间。加之电聚合受电极面积的限制,不利于大规模生产。

然而,国内外采用化学氧化聚合法合成稠环芳香聚荧蒽的领域尚无人涉足。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的上述不足,旨在提供一种可简便地实施的合成聚荧蒽的方法。

为达到上述目的,本发明通过以下技术方案实现:

一种在单相溶剂体系中合成聚荧蒽的方法,其特征在于,将荧蒽单体与三氯化铁在硝基甲烷中反应1小时以上。

其中,三氯化铁与荧蒽单体的摩尔比为1~9∶1。

其中,反应时间为1~50小时。

其中,反应温度为10~100℃。

本发明中的产物的结构表征

紫外表征

紫外测试(UV)使用760CRT型双光束紫外可见分光光度计,步长为400nm·min-1,扫描范围为200-900nm,试样分别在NMP和浓硫酸中进行紫外光谱表征。

红外表征

产物经研细,在80℃左右的烘箱内干燥一周左右处理后,使用Nicolet Magna-IRTM 550傅立叶变换红外光谱仪进行反射红外光谱测试,仪器分辨率为2cm-1。

广角X射线衍射表征

产物经研细、烘干处理,采用D/max 2550型X射线衍射仪,扫描角度为5°-70°,扫描速度为10°/min。

溶解性测试

取微量约为2粒芝麻大小的产物样品,分别溶于3mL甲酸、乙酸等18种溶剂中,分别比较其溶解情况和溶液颜色。

聚荧蒽的掺杂及电导性测试

对制得的聚合物进行掺杂处理,取一定量反应产物,玻璃试管中,在80℃左右的烘箱内静置热处理48h以上,除去反应副产物HCl的原位掺杂。之后,再加入约为0.2g的碘,密封玻璃试管,于80℃左右的烘箱内加热掺杂48小时,即可完成聚荧蒽的掺杂。然后取一定量的掺杂聚荧蒽,置于两铜片电极之间,制成薄片。施加一定的压力,测出其电阻,并准确测量薄片的最小厚度,根据公式σ=d/RS计算样品的电导率,其中,σ为电导率,单位为S·cm-1,d是聚合物薄片厚度,单位为cm,R是薄片轴向电阻,单位为Ω,S是薄片横截面积,为0.785cm2

熔融温度测试

取微量的聚合物样品置于干净的盖玻片上,再加盖盖玻片,并且使样品在盖玻片间分散均匀。将样品置于Opthoplan 043882热台偏光显微镜下,选用放大10倍的目镜,在正常光线条件下观察样品的形貌和分散状态,开始加热,记录聚合物熔融时的温度即为熔融温度。

本发明的有益效果是:本发明通过化学氧化法,以硝基甲烷作为单相溶剂反应介质,无水氯化铁作为氧化剂合成了聚荧蒽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810038953.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top