[发明专利]可以记录反射全息的聚合物液晶感光材料制备方法有效
申请号: | 200810040805.3 | 申请日: | 2008-07-21 |
公开(公告)号: | CN101324752A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 徐良衡;高芸;游仁顺;杨凯;徐雪雯 | 申请(专利权)人: | 上海复旦天臣新技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/028;G03F7/11;G03F7/16;G03F7/20 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 | 代理人: | 罗大忱 |
地址: | 200433上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 可以 记录 反射 全息 聚合物 液晶 感光材料 制备 方法 | ||
1.一种全息感光涂料,包括感光聚合物涂料及与之匹配的溶剂,所述的感光聚合 物涂料包括如下重量百分比的组分:
所说偶氮苯液晶聚合物选自对氨基偶氮苯聚丙烯酸甲酯或对氨基偶氮苯聚丙烯酸丁 酯。
2.根据权利要求1所述的全息感光涂料,其特征在于,所述的感光聚合物涂料包括 如下重量百分比的组分:
3.根据权利要求1所述的全息感光涂料,其特征在于,所说的成膜剂选自聚甲基 丙烯酸甲酯、聚醋酸纤维素丁酯、醋酸纤维素丁酯与乙基乙烯基醚的共聚物、聚乙烯醇 缩丁醛与醋酸纤维素的共混物、聚醋酸乙烯酯-丙烯酸丁酯-丙烯酸三元共聚物或聚苯 乙烯丙烯腈;
所说的可聚合单体选自丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、三羟甲基丙烷 三丙烯酸酯、双丙酮丙烯酰胺、乙氧基化的双酚A的二丙烯酸酯,选取其中两种单体作 为可聚合单体体系,其重量比例是1∶0.4~0.9;
所说的光引发剂选自:2,4,6-三苯基咪唑基双联体、联苯甲酰或2,2-二甲基-2-苯 基乙酰苯;
所说的光敏剂选自藻红B、二乙氨基-亚苄基环戊酮或米氏酮或1,3,3-三甲基 -2-[5-(1,3,3-三甲基-2-吲哚叉)-1,3-戊二烯]吲哚碘盐;
所说的溶剂为丁酮/二氯甲烷/甲醇的混合物,其重量比例为4~6∶0.5~1.5∶0.5~1.5。
4.根据权利要求1所述的全息感光涂料,其特征在于,所述的感光聚合物涂料还 包括感光聚合物涂料总重量0.5~3%的增塑剂和/或0.1~1%的紫外吸收剂和/或0.1~1%的 非离子表面活性剂;
增塑剂选自邻苯二甲酸酯,烷基二酸酯、聚乙二醇羧酸酯或癸二酸二乙酯;
紫外吸收剂选自2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮或2-(2H-苯并三唑-2)-4,6-二(1-甲 基-1-苯乙基)苯酚;
非离子表面活性剂选自聚乙二醇、甲氧基聚乙二醇或3M公司生产的氟素表面活性 剂FC-4430。
5.一种可以记录反射全息的感光聚合物薄膜,包括基膜和涂复在基膜一侧上的缓 冲层、涂复在缓冲层另一侧上的权利要求1~3任一项所述的全息感光涂料形成的感光 聚合物涂层和覆盖在感光聚合物涂料层表面的表面保护膜。
6.根据权利要求5所述的以记录反射全息的感光聚合物薄膜,其特征在于,干燥 后的感光聚合物涂料层的厚度为3~50μm。
7.根据权利要求5所述的可以记录反射全息的感光聚合物薄膜,其特征在于,所 说的基膜选自20~100μm的PVC、PET或BOPP膜,厚度为20~100μm;
所说的缓冲层是感光聚合物涂料层与基膜的连接层,所用材料采用与基膜折射率相 近的醋酸乙烯酯和丙烯酸酯类共聚物、偏氯乙烯苯乙烯醋酸乙烯酯共聚物或采用丙烯酸 酯类光固化涂层,涂层厚度为1~2μm;
所说的表面保护膜,采用已有离型涂层的基材,厚度为16~23μm。
8.一种反射全息薄膜,在权利要求6~7任一项所说的可以记录反射全息的感光聚 合物薄膜的感光聚合物涂层上记录有全息图像或双变色图文的干涉条纹。
9.制备权利要求8所述的反射全息薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)涂布材料的制备:在避光条件或在红色光线下,按比例将成膜剂、偶氮苯液 晶聚合物、可聚合单体、引发剂和光敏剂加到溶剂中,搅拌溶解,获得所说的感光涂料;
(2)感光聚合物薄膜材料的制备:在涂布基膜上涂布缓冲层,在避光条件或在红 色光线下,将步骤(1)的感光涂料,涂布在已有缓冲层的基膜上,在65-75℃下干燥1~ 5分钟,干燥后覆盖保护膜,并室温下以1~3m/min的速度经过0.5~5.0T的磁场,给偶 氮苯液晶聚合物进行取向,即获得所说的感光聚合物薄膜材料;
(3)将步骤(2)的产物揭开保护膜,采用反射全息记录方法,将全息图记录在感 光聚合物薄膜材料上,然后在紫外固化机上对膜进行紫外和可见光全部曝光,120℃加 热2~50分钟,即获得反射全息薄膜。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,红色光线的波长大于600nm,激光 光源的波长为514.5nm或532nm,光强为60~110mw/cm2,曝光时间在0.1-1.0s。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海复旦天臣新技术有限公司,未经上海复旦天臣新技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810040805.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:衬垫
- 下一篇:光学储存系统的球差补偿装置与方法